Influence of impurities on cobalt silicide formation (1991)
- Autores:
- Autor USP: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Idioma: Inglês
- Fonte:
- Título do periódico: Journal of the Electrochemical Society
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.138, n.10, p.3067-70, oct. 1991
-
ABNT
FREITAS, W e SWART, Jacobus Willibrordus. Influence of impurities on cobalt silicide formation. Journal of the Electrochemical Society, v. 138, n. 10, p. 3067-70, 1991Tradução . . Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Freitas, W., & Swart, J. W. (1991). Influence of impurities on cobalt silicide formation. Journal of the Electrochemical Society, 138( 10), 3067-70. -
NLM
Freitas W, Swart JW. Influence of impurities on cobalt silicide formation. Journal of the Electrochemical Society. 1991 ;138( 10): 3067-70.[citado 2024 abr. 23 ] -
Vancouver
Freitas W, Swart JW. Influence of impurities on cobalt silicide formation. Journal of the Electrochemical Society. 1991 ;138( 10): 3067-70.[citado 2024 abr. 23 ] - Analise da influencia de impurezas em filmes de 'CO' na formacao do siliceto
- Interconexoes e contatos em circuitos integrados
- Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd
- Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido
- Processo CMOS de cavidade dupla para comprimento de porta de 2um: resultados finais
- Doping of silicon with boron by rapid thermal processing
- Dopagem de 'SI' com fósforo por tratamento térmico rápido
- Projeto de transistores mesfet / 'GA''AS' com estrutura auto-alinhada obtida por implantacao ionica
- Desenvolvimento de um sistema rp / rtcvd
- Redução de oxido durante a formação de siliceto de titanio
Como citar
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
