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Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial (1994)

  • Autores:
  • Autor USP: SILVA, CLAUDIO MORAIS DE ASSIS - EP
  • Unidade: EP
  • Sigla do Departamento: PMT
  • Assunto: RESISTÊNCIA DOS MATERIAIS
  • Idioma: Português
  • Resumo: Neste trabalho, sao estudados as tecnicas e metodos para a determinacao de um processo fotolitografico, utilizando-se fotorresiste positivo. Este processo foi desenvolvido em ambiente industrial. Sao discutidos os problemas de obtencao, exposicao, revelacao e cozimento da camada de fotorresiste. Trata-se, tambem, dos problemas relacionados a definicao de geometrias na camada de fotorresiste. O processo desenvolvido permitiu definir geometrias de 3'MICROMETROS' a 2 'MICROMETROS' em camadas de fotorresiste de 1,2 'MICROMETROS' a 1,6 'MICROMETROS' de espessura. O fotorresiste e o revelador utilizados foram o hpr204 e hprd419 respectivamente. O estudo estabeleceu as influencias das variaveis do processo na determinacao da espessura e das dimensoes definidas na camada de fotorresiste. Para isso, foram utilizados projetos fatoriais, que consistem em tecnicas estatisticas para a elaboracao e execucao de experimentos. Estes projetos permitem a determinacao qualitativa e quantitativa das influencias das variaveis do processo nas dimensoes das geometrias. Foram obtidas, tambem, as curvas que caracterizam o processo.
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 17.06.1994

  • Como citar
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    • ABNT

      SILVA, Claudio Morais de Assis; FURLAN, Rogério. Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial. 1994.Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994.
    • APA

      Silva, C. M. de A., & Furlan, R. (1994). Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial. Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Silva CM de A, Furlan R. Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial. 1994 ;
    • Vancouver

      Silva CM de A, Furlan R. Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial. 1994 ;

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