Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions (2001)
Source: SBMicro 2001: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
REIS, Ronaldo Willian e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 16 nov. 2025.APA
Reis, R. W., & Santos Filho, S. G. dos. (2001). Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.NLM
Reis RW, Santos Filho SG dos. Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 16 ]Vancouver
Reis RW, Santos Filho SG dos. Characterization of Ni/TiSi2 contacts fabricated onto N+P junctions. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 16 ]
