Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system (1996)
Source: Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica. Unidades: EP, IF
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
ABNT
OSORIO, Sergio Paulo Amaral e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica, n. 03, 1996Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/291bf272-2e59-4e07-b76e-75cb54e64919/BT-PEE-03_96_251022_090726.pdf. Acesso em: 23 nov. 2025.APA
Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1996). Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica, (03). Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/291bf272-2e59-4e07-b76e-75cb54e64919/BT-PEE-03_96_251022_090726.pdfNLM
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system [Internet]. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica. 1996 ;(03):[citado 2025 nov. 23 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/291bf272-2e59-4e07-b76e-75cb54e64919/BT-PEE-03_96_251022_090726.pdfVancouver
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system [Internet]. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica. 1996 ;(03):[citado 2025 nov. 23 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/291bf272-2e59-4e07-b76e-75cb54e64919/BT-PEE-03_96_251022_090726.pdf
