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  • Source: Applied Surface Science. Unidade: IFSC

    Subjects: LASER, ÓPTICA, NITROGÊNIO, FOTÔNICA

    PrivadoAcesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      NOLASCO, Lucas Konaka et al. Optimization of nitrogen-vacancy center production using ultrashort laser pulses. Applied Surface Science, v. 713, p. 164318-1-164318-7, 2025Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.164318. Acesso em: 18 nov. 2025.
    • APA

      Nolasco, L. K., Andrade, L. N. S. de, Pratavieira, S., Muniz, S. R., & Mendonça, C. R. (2025). Optimization of nitrogen-vacancy center production using ultrashort laser pulses. Applied Surface Science, 713, 164318-1-164318-7. doi:10.1016/j.apsusc.2025.164318
    • NLM

      Nolasco LK, Andrade LNS de, Pratavieira S, Muniz SR, Mendonça CR. Optimization of nitrogen-vacancy center production using ultrashort laser pulses [Internet]. Applied Surface Science. 2025 ; 713 164318-1-164318-7.[citado 2025 nov. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.164318
    • Vancouver

      Nolasco LK, Andrade LNS de, Pratavieira S, Muniz SR, Mendonça CR. Optimization of nitrogen-vacancy center production using ultrashort laser pulses [Internet]. Applied Surface Science. 2025 ; 713 164318-1-164318-7.[citado 2025 nov. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.164318
  • Source: Applied Surface Science. Unidade: IFSC

    Subjects: MATERIAIS CERÂMICOS, LASER, FILMES FINOS, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS

    PrivadoAcesso à fonteDOIHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      PAULA, Kelly Tasso de et al. Femtosecond laser induced damage threshold incubation and oxidation in AS2S3 and AS2Se3 thin fillms. Applied Surface Science, v. 654, p. 159449-1-159449-10, 2024Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.159449. Acesso em: 18 nov. 2025.
    • APA

      Paula, K. T. de, Dutta, N. S., Almeida, J. M. P. de, Nolasco, L. K., Andrade, M. B. de, Arnold, C. B., & Mendonça, C. R. (2024). Femtosecond laser induced damage threshold incubation and oxidation in AS2S3 and AS2Se3 thin fillms. Applied Surface Science, 654, 159449-1-159449-10. doi:10.1016/j.apsusc.2024.159449
    • NLM

      Paula KT de, Dutta NS, Almeida JMP de, Nolasco LK, Andrade MB de, Arnold CB, Mendonça CR. Femtosecond laser induced damage threshold incubation and oxidation in AS2S3 and AS2Se3 thin fillms [Internet]. Applied Surface Science. 2024 ; 654 159449-1-159449-10.[citado 2025 nov. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.159449
    • Vancouver

      Paula KT de, Dutta NS, Almeida JMP de, Nolasco LK, Andrade MB de, Arnold CB, Mendonça CR. Femtosecond laser induced damage threshold incubation and oxidation in AS2S3 and AS2Se3 thin fillms [Internet]. Applied Surface Science. 2024 ; 654 159449-1-159449-10.[citado 2025 nov. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.159449

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