Study of the sputtering process due to low energy ion implantation on thin 'AU' films (2014)
Source: SBF. Conference titles: Reunião de Trabalho sobre Física Nuclear no Brasil. Unidades: IF, IME
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, IONS
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ABNT
ROSA, Edson Ponciano et al. Study of the sputtering process due to low energy ion implantation on thin 'AU' films. 2014, Anais.. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 2014. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/rtfnb/xxxvii/sys/resumos/R0147-1.pdf. Acesso em: 21 ago. 2024.APA
Rosa, E. P., Engel, W. G. P., Silva, T. F. da, Rodrigues, C. L., & Rizzutto, M. de A. (2014). Study of the sputtering process due to low energy ion implantation on thin 'AU' films. In SBF. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/rtfnb/xxxvii/sys/resumos/R0147-1.pdfNLM
Rosa EP, Engel WGP, Silva TF da, Rodrigues CL, Rizzutto M de A. Study of the sputtering process due to low energy ion implantation on thin 'AU' films [Internet]. SBF. 2014 ;[citado 2024 ago. 21 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/rtfnb/xxxvii/sys/resumos/R0147-1.pdfVancouver
Rosa EP, Engel WGP, Silva TF da, Rodrigues CL, Rizzutto M de A. Study of the sputtering process due to low energy ion implantation on thin 'AU' films [Internet]. SBF. 2014 ;[citado 2024 ago. 21 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/rtfnb/xxxvii/sys/resumos/R0147-1.pdf
