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Artigo de periodico
Synthesis and characterization of Ni : SiO2 nanocomposites processed as thin films (2005)
Gouveia, P S; Escote, M T; Longo, E; Leite, E R; Carreno, N L V; Fonseca, F C; Jardim, Renato de Figueiredo
Fonte: Quimica Nova. Unidade: IF
Assuntos: FILMES FINOS, MAGNETISMO
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ABNT
GOUVEIA, P S et al. Synthesis and characterization of Ni : SiO2 nanocomposites processed as thin films. Quimica Nova, v. 28, n. 5, p. 842-846, 2005Tradução . . Disponível em: http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40422005000500022&tlng=en&lng=en&nrm=iso. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Gouveia, P. S., Escote, M. T., Longo, E., Leite, E. R., Carreno, N. L. V., Fonseca, F. C., & Jardim, R. de F. (2005). Synthesis and characterization of Ni : SiO2 nanocomposites processed as thin films. Quimica Nova, 28( 5), 842-846. Recuperado de http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40422005000500022&tlng=en&lng=en&nrm=iso
NLM
Gouveia PS, Escote MT, Longo E, Leite ER, Carreno NLV, Fonseca FC, Jardim R de F. Synthesis and characterization of Ni : SiO2 nanocomposites processed as thin films [Internet]. Quimica Nova. 2005 ; 28( 5): 842-846.[citado 2025 nov. 27 ] Available from: http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40422005000500022&tlng=en&lng=en&nrm=iso
Vancouver
Gouveia PS, Escote MT, Longo E, Leite ER, Carreno NLV, Fonseca FC, Jardim R de F. Synthesis and characterization of Ni : SiO2 nanocomposites processed as thin films [Internet]. Quimica Nova. 2005 ; 28( 5): 842-846.[citado 2025 nov. 27 ] Available from: http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40422005000500022&tlng=en&lng=en&nrm=iso
Artigo de periodico
Use of thin films obtained by plasma polymerization for grain protection and germination enhancement (2005)
Carvalho, Rodrigo Amorim Motta; Carvalho, Alexsander Tressino de; Silva, Maria Lucia Pereira da; Demarquette, Nicole Raymonde ; Assis, Odílio Benedito Garrido de
Fonte: Quimica Nova. Unidades: EP, Interunidades em Ciência e Engenharia de Materiais
Assuntos: PLASMA, POLIMERIZAÇÃO
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ABNT
CARVALHO, Rodrigo Amorim Motta et al. Use of thin films obtained by plasma polymerization for grain protection and germination enhancement. Quimica Nova, v. 28, n. 6, p. 1006-1009, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/s0100-40422005000600014. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Carvalho, R. A. M., Carvalho, A. T. de, Silva, M. L. P. da, Demarquette, N. R., & Assis, O. B. G. de. (2005). Use of thin films obtained by plasma polymerization for grain protection and germination enhancement. Quimica Nova, 28( 6), 1006-1009. doi:10.1590/s0100-40422005000600014
NLM
Carvalho RAM, Carvalho AT de, Silva MLP da, Demarquette NR, Assis OBG de. Use of thin films obtained by plasma polymerization for grain protection and germination enhancement [Internet]. Quimica Nova. 2005 ; 28( 6): 1006-1009.[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0100-40422005000600014
Vancouver
Carvalho RAM, Carvalho AT de, Silva MLP da, Demarquette NR, Assis OBG de. Use of thin films obtained by plasma polymerization for grain protection and germination enhancement [Internet]. Quimica Nova. 2005 ; 28( 6): 1006-1009.[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0100-40422005000600014

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