Crack free Er/Yb activated sol-gel 'Si'O IND.2'-Hf'O IND.2' films on silicon (2005)
Fonte: Abstracts and Program. Nome do evento: International Workshop on Sol-Gel Science and Technology. Unidade: FFCLRP
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ABNT
SIGOLI, Fernando A. et al. Crack free Er/Yb activated sol-gel 'Si'O IND.2'-Hf'O IND.2' films on silicon. 2005, Anais.. Los Angeles: Faculdade de Filosofia, Ciências e Letras de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo, 2005. . Acesso em: 28 nov. 2025.APA
Sigoli, F. A., Gonçalves, R. R., Mendoza, E. A., Ribeiro, S. J. L., & Messaddeq, Y. (2005). Crack free Er/Yb activated sol-gel 'Si'O IND.2'-Hf'O IND.2' films on silicon. In Abstracts and Program. Los Angeles: Faculdade de Filosofia, Ciências e Letras de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo.NLM
Sigoli FA, Gonçalves RR, Mendoza EA, Ribeiro SJL, Messaddeq Y. Crack free Er/Yb activated sol-gel 'Si'O IND.2'-Hf'O IND.2' films on silicon. Abstracts and Program. 2005 ;[citado 2025 nov. 28 ]Vancouver
Sigoli FA, Gonçalves RR, Mendoza EA, Ribeiro SJL, Messaddeq Y. Crack free Er/Yb activated sol-gel 'Si'O IND.2'-Hf'O IND.2' films on silicon. Abstracts and Program. 2005 ;[citado 2025 nov. 28 ]
