Adsorção atômica e molecular de cloro sobre a superfície livre de silício (1999)
Unidade: IFSubjects: MATÉRIA CONDENSADA, FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA, ESTRUTURA ELETRÔNICA
ABNT
CASAGRANDE, Douglas. Adsorção atômica e molecular de cloro sobre a superfície livre de silício. 1999. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1999. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-23052012-152952/. Acesso em: 12 out. 2024.APA
Casagrande, D. (1999). Adsorção atômica e molecular de cloro sobre a superfície livre de silício (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-23052012-152952/NLM
Casagrande D. Adsorção atômica e molecular de cloro sobre a superfície livre de silício [Internet]. 1999 ;[citado 2024 out. 12 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-23052012-152952/Vancouver
Casagrande D. Adsorção atômica e molecular de cloro sobre a superfície livre de silício [Internet]. 1999 ;[citado 2024 out. 12 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-23052012-152952/