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  • Fonte: Nanotechnology. Unidade: IFSC

    Assuntos: FILMES FINOS, DISPOSITIVOS ÓPTICOS, DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS, SEMICONDUTORES

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    • ABNT

      LÓPEZ-MEDINA, J. et al. Refractive index of ZnO ultrathin films alternated with Al2O3 in multilayer heterostructures. Nanotechnology, v. 31, n. 50, p. 505715-1-505715-7, 2020Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1088/1361-6528/abb42f. Acesso em: 14 nov. 2024.
    • APA

      López-Medina, J., Carvalho, W. O. F., Vazquez-Arce, J., Moncada-Villa, E., Oliveira Junior, O. N. de, Farías, M. H., et al. (2020). Refractive index of ZnO ultrathin films alternated with Al2O3 in multilayer heterostructures. Nanotechnology, 31( 50), 505715-1-505715-7. doi:10.1088/1361-6528/abb42f
    • NLM

      López-Medina J, Carvalho WOF, Vazquez-Arce J, Moncada-Villa E, Oliveira Junior ON de, Farías MH, Tiznado H, Mejía-Salazar JR. Refractive index of ZnO ultrathin films alternated with Al2O3 in multilayer heterostructures [Internet]. Nanotechnology. 2020 ; 31( 50): 505715-1-505715-7.[citado 2024 nov. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1361-6528/abb42f
    • Vancouver

      López-Medina J, Carvalho WOF, Vazquez-Arce J, Moncada-Villa E, Oliveira Junior ON de, Farías MH, Tiznado H, Mejía-Salazar JR. Refractive index of ZnO ultrathin films alternated with Al2O3 in multilayer heterostructures [Internet]. Nanotechnology. 2020 ; 31( 50): 505715-1-505715-7.[citado 2024 nov. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1361-6528/abb42f

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