Lima, John Paul Hempel; Dirani, Ely Antonio Tadeu 
; Nardes, Alexandre Mantovani; Fonseca, Fernando Josepetti ; Andrade, Adnei Melges de
Source: SIICUSP;CICTE: resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
LIMA, John Paul Hempel et al. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado. 2002, Anais.. São Paulo: USP, 2002. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm. Acesso em: 19 nov. 2024.APA
Lima, J. P. H., Dirani, E. A. T., Nardes, A. M., Fonseca, F. J., & Andrade, A. M. de. (2002). Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado. In SIICUSP;CICTE: resumos. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htmNLM
Lima JPH, Dirani EAT, Nardes AM, Fonseca FJ, Andrade AM de. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2024 nov. 19 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htmVancouver
Lima JPH, Dirani EAT, Nardes AM, Fonseca FJ, Andrade AM de. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2024 nov. 19 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm
