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Artigo de periodico
MEH-PPV thin films for radiation sensor applications (2009)
Bazani, Dayana Luiza Martins; Lima, John Paul Hempel; Andrade, Adnei Melges de
Source: IEEE Sensors Journal. Unidade: IEE
Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS), FILMES FINOS, SENSORES ÓPTICOS
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ABNT
BAZANI, Dayana Luiza Martins e LIMA, John Paul Hempel e ANDRADE, Adnei Melges de. MEH-PPV thin films for radiation sensor applications. IEEE Sensors Journal, v. 9, n. 7, p. 748-751, 2009Tradução . . Acesso em: 08 ago. 2024.
APA
Bazani, D. L. M., Lima, J. P. H., & Andrade, A. M. de. (2009). MEH-PPV thin films for radiation sensor applications. IEEE Sensors Journal, 9( 7), 748-751.
NLM
Bazani DLM, Lima JPH, Andrade AM de. MEH-PPV thin films for radiation sensor applications. IEEE Sensors Journal. 2009 ; 9( 7): 748-751.[citado 2024 ago. 08 ]
Vancouver
Bazani DLM, Lima JPH, Andrade AM de. MEH-PPV thin films for radiation sensor applications. IEEE Sensors Journal. 2009 ; 9( 7): 748-751.[citado 2024 ago. 08 ]
Artigo de periodico
Influence of the deposition parameters on the morphology and electrical conductivity of PANI/PSS self-assembled films (2008)
Braga, Guilherme de Souza; Paterno, Leonardo Giordano ; Lima, John Paul Hempel; Fonseca, Fernando Josepetti ; Andrade, Adnei Melges de
Source: Materials Science and Engineering: C. Unidades: EP, IEE
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
BRAGA, Guilherme de Souza et al. Influence of the deposition parameters on the morphology and electrical conductivity of PANI/PSS self-assembled films. Materials Science and Engineering: C, v. 28, n. 4, p. 555-562, 2008Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.msec.2007.06.003. Acesso em: 08 ago. 2024.
APA
Braga, G. de S., Paterno, L. G., Lima, J. P. H., Fonseca, F. J., & Andrade, A. M. de. (2008). Influence of the deposition parameters on the morphology and electrical conductivity of PANI/PSS self-assembled films. Materials Science and Engineering: C, 28( 4), 555-562. doi:10.1016/j.msec.2007.06.003
NLM
Braga G de S, Paterno LG, Lima JPH, Fonseca FJ, Andrade AM de. Influence of the deposition parameters on the morphology and electrical conductivity of PANI/PSS self-assembled films [Internet]. Materials Science and Engineering: C. 2008 ;28( 4): 555-562.[citado 2024 ago. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.msec.2007.06.003
Vancouver
Braga G de S, Paterno LG, Lima JPH, Fonseca FJ, Andrade AM de. Influence of the deposition parameters on the morphology and electrical conductivity of PANI/PSS self-assembled films [Internet]. Materials Science and Engineering: C. 2008 ;28( 4): 555-562.[citado 2024 ago. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.msec.2007.06.003
Trabalho de evento-resumo
Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado (2002)
Lima, John Paul Hempel; Dirani, Ely Antonio Tadeu ; Nardes, Alexandre Mantovani; Fonseca, Fernando Josepetti ; Andrade, Adnei Melges de
Source: SIICUSP;CICTE: resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
LIMA, John Paul Hempel et al. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado. 2002, Anais.. São Paulo: USP, 2002. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm. Acesso em: 08 ago. 2024.
APA
Lima, J. P. H., Dirani, E. A. T., Nardes, A. M., Fonseca, F. J., & Andrade, A. M. de. (2002). Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado. In SIICUSP;CICTE: resumos. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm
NLM
Lima JPH, Dirani EAT, Nardes AM, Fonseca FJ, Andrade AM de. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2024 ago. 08 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm
Vancouver
Lima JPH, Dirani EAT, Nardes AM, Fonseca FJ, Andrade AM de. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2024 ago. 08 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm

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