ReP USP - Resultado da busca

Trabalho de evento-resumo
Oxidação eletroquímica de efluente de curtume sintético em meio aquoso livre de cloreto (2010)
Costa, Carla R.; Olivi, Paulo; Montilla, Francisco; Morallón, Emilia
Source: Resumos. Conference titles: Congresso de la Sociedad Iberoamericana de Eletroquímica. Unidade: FFCLRP
Subjects: ELETROQUÍMICA, EFLUENTES, CURTUME
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
COSTA, Carla R. et al. Oxidação eletroquímica de efluente de curtume sintético em meio aquoso livre de cloreto. 2010, Anais.. Madrid: Faculdade de Filosofia, Ciências e Letras de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo, 2010. . Acesso em: 11 nov. 2024.
APA
Costa, C. R., Olivi, P., Montilla, F., & Morallón, E. (2010). Oxidação eletroquímica de efluente de curtume sintético em meio aquoso livre de cloreto. In Resumos. Madrid: Faculdade de Filosofia, Ciências e Letras de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo.
NLM
Costa CR, Olivi P, Montilla F, Morallón E. Oxidação eletroquímica de efluente de curtume sintético em meio aquoso livre de cloreto. Resumos. 2010 ;[citado 2024 nov. 11 ]
Vancouver
Costa CR, Olivi P, Montilla F, Morallón E. Oxidação eletroquímica de efluente de curtume sintético em meio aquoso livre de cloreto. Resumos. 2010 ;[citado 2024 nov. 11 ]
Trabalho de evento-resumo
Tratamento eletroquímico e fotoeletroquímico de ácido tânico na presença de cloro (2010)
Cardoso, Franciane P.; Aguiar, Ana C. R.; Olivi, Paulo
Source: Resumos. Conference titles: Congresso de la Sociedad Iberoamericana de Eletroquímica. Unidade: FFCLRP
Subjects: ELETROQUÍMICA (TRATAMENTO), EFLUENTES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARDOSO, Franciane P. e AGUIAR, Ana C. R. e OLIVI, Paulo. Tratamento eletroquímico e fotoeletroquímico de ácido tânico na presença de cloro. 2010, Anais.. Madrid: Faculdade de Filosofia, Ciências e Letras de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo, 2010. . Acesso em: 11 nov. 2024.
APA
Cardoso, F. P., Aguiar, A. C. R., & Olivi, P. (2010). Tratamento eletroquímico e fotoeletroquímico de ácido tânico na presença de cloro. In Resumos. Madrid: Faculdade de Filosofia, Ciências e Letras de Ribeirão Preto, Universidade de São Paulo.
NLM
Cardoso FP, Aguiar ACR, Olivi P. Tratamento eletroquímico e fotoeletroquímico de ácido tânico na presença de cloro. Resumos. 2010 ;[citado 2024 nov. 11 ]
Vancouver
Cardoso FP, Aguiar ACR, Olivi P. Tratamento eletroquímico e fotoeletroquímico de ácido tânico na presença de cloro. Resumos. 2010 ;[citado 2024 nov. 11 ]
Artigo de periodico
Electrochemical oxidation of synthetic tannery wastewater in chloride-free aqueous media (2010)
Costa, Carla Regina; Montilla, Francisco; Morallón, Emilia; Olivi, Paulo
Source: Journal of Hazardous Materials. Unidade: FFCLRP
Subjects: EFLUENTES, CURTUME, ELETROQUÍMICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
COSTA, Carla Regina et al. Electrochemical oxidation of synthetic tannery wastewater in chloride-free aqueous media. Journal of Hazardous Materials, v. 180, n. 1-3, p. 429-435, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jhazmat.2010.04.048. Acesso em: 11 nov. 2024.
APA
Costa, C. R., Montilla, F., Morallón, E., & Olivi, P. (2010). Electrochemical oxidation of synthetic tannery wastewater in chloride-free aqueous media. Journal of Hazardous Materials, 180( 1-3), 429-435. doi:10.1016/j.jhazmat.2010.04.048
NLM
Costa CR, Montilla F, Morallón E, Olivi P. Electrochemical oxidation of synthetic tannery wastewater in chloride-free aqueous media [Internet]. Journal of Hazardous Materials. 2010 ; 180( 1-3): 429-435.[citado 2024 nov. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jhazmat.2010.04.048
Vancouver
Costa CR, Montilla F, Morallón E, Olivi P. Electrochemical oxidation of synthetic tannery wastewater in chloride-free aqueous media [Internet]. Journal of Hazardous Materials. 2010 ; 180( 1-3): 429-435.[citado 2024 nov. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jhazmat.2010.04.048

USP Schools

ReP

Filtros

Authors

Indexado em