Study of sputtering processes, on metallic thin films, due to low energy ion implantation (2013)
Conference titles: Reunião de Trabalho sobre Física Nuclear no Brasil. Unidade: IFSubjects: FÍSICA (ESTUDO E ENSINO) (CONGRESSOS), REAÇÕES NUCLEARES
ABNT
ROSA, Edson P et al. Study of sputtering processes, on metallic thin films, due to low energy ion implantation. 2013, Anais.. São Paulo: SBF, 2013. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/rtfnb/xxxvi/sys/resumos/R0151-1.pdf. Acesso em: 28 mar. 2024.APA
Rosa, E. P., Marcia A. Rizzutto,, Rodrigues, C. L., Trindade, G. F., Silva, T. F. da, Moro, M. V., et al. (2013). Study of sputtering processes, on metallic thin films, due to low energy ion implantation. In . São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/rtfnb/xxxvi/sys/resumos/R0151-1.pdfNLM
Rosa EP, Marcia A. Rizzutto, Rodrigues CL, Trindade GF, Silva TF da, Moro MV, Added N, Tabacniks MH. Study of sputtering processes, on metallic thin films, due to low energy ion implantation [Internet]. 2013 ;[citado 2024 mar. 28 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/rtfnb/xxxvi/sys/resumos/R0151-1.pdfVancouver
Rosa EP, Marcia A. Rizzutto, Rodrigues CL, Trindade GF, Silva TF da, Moro MV, Added N, Tabacniks MH. Study of sputtering processes, on metallic thin films, due to low energy ion implantation [Internet]. 2013 ;[citado 2024 mar. 28 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/rtfnb/xxxvi/sys/resumos/R0151-1.pdf