Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering (2000)
Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidade: IF
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
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ABNT
CASTRO, Ricardo A et al. Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering. 2000, Anais.. São Paulo: SBF, 2000. . Acesso em: 26 ago. 2024.APA
Castro, R. A., Chubaci, J. F. D., Matsuoka, M., Watanabe, S., & Mansano, R. D. (2000). Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering. In Resumos. São Paulo: SBF.NLM
Castro RA, Chubaci JFD, Matsuoka M, Watanabe S, Mansano RD. Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering. Resumos. 2000 ;[citado 2024 ago. 26 ]Vancouver
Castro RA, Chubaci JFD, Matsuoka M, Watanabe S, Mansano RD. Caracterização de filmes finos de nitreto de carbono formados por RF magnetron sputtering. Resumos. 2000 ;[citado 2024 ago. 26 ]