ReP USP - Resultado da busca

Tese (Doutorado)
Modificação de superfícies metálicas via implantação iônica para tochas de plasma e outras aplicações (2004)
Jankov, Ivan; Szente, Roberto Nunes (Orientador)
Unidade: IF
Subjects: SUPERFÍCIE FÍSICA, FÍSICA DE PLASMAS, MATERIAIS METÁLICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
JANKOV, Ivan. Modificação de superfícies metálicas via implantação iônica para tochas de plasma e outras aplicações. 2004. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2004. . Acesso em: 11 set. 2024.
APA
Jankov, I. (2004). Modificação de superfícies metálicas via implantação iônica para tochas de plasma e outras aplicações (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Jankov I. Modificação de superfícies metálicas via implantação iônica para tochas de plasma e outras aplicações. 2004 ;[citado 2024 set. 11 ]
Vancouver
Jankov I. Modificação de superfícies metálicas via implantação iônica para tochas de plasma e outras aplicações. 2004 ;[citado 2024 set. 11 ]
Dissertação (Mestrado)
Modelagem e simulação de processos a plasma para o tratamento de organo-clorados (2000)
Bianchini, Roberto Cezar; Szente, Roberto Nunes (Orientador)
Unidade: IF
Subjects: FÍSICA DE PLASMAS, PLASMA, FÍSICA NUCLEAR
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BIANCHINI, Roberto Cezar. Modelagem e simulação de processos a plasma para o tratamento de organo-clorados. 2000. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2000. . Acesso em: 11 set. 2024.
APA
Bianchini, R. C. (2000). Modelagem e simulação de processos a plasma para o tratamento de organo-clorados (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Bianchini RC. Modelagem e simulação de processos a plasma para o tratamento de organo-clorados. 2000 ;[citado 2024 set. 11 ]
Vancouver
Bianchini RC. Modelagem e simulação de processos a plasma para o tratamento de organo-clorados. 2000 ;[citado 2024 set. 11 ]
Dissertação (Mestrado)
Implantação iônica controlada para eletrodos de tochas de plasma (2000)
Jankov, Ivan; Szente, Roberto Nunes (Orientador)
Unidade: IF
Assunto: FÍSICA DE PLASMAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
JANKOV, Ivan. Implantação iônica controlada para eletrodos de tochas de plasma. 2000. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2000. . Acesso em: 11 set. 2024.
APA
Jankov, I. (2000). Implantação iônica controlada para eletrodos de tochas de plasma (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Jankov I. Implantação iônica controlada para eletrodos de tochas de plasma. 2000 ;[citado 2024 set. 11 ]
Vancouver
Jankov I. Implantação iônica controlada para eletrodos de tochas de plasma. 2000 ;[citado 2024 set. 11 ]
Dissertação (Mestrado)
Simulação de tochas de plasma de arco não transferido (1997)
Favalli, Renata Cristina; Szente, Roberto Nunes (Orientador)
Unidade: IF
Subjects: FÍSICA DE PLASMAS, DESCARGA ELÉTRICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
FAVALLI, Renata Cristina. Simulação de tochas de plasma de arco não transferido. 1997. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1997. . Acesso em: 11 set. 2024.
APA
Favalli, R. C. (1997). Simulação de tochas de plasma de arco não transferido (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Favalli RC. Simulação de tochas de plasma de arco não transferido. 1997 ;[citado 2024 set. 11 ]
Vancouver
Favalli RC. Simulação de tochas de plasma de arco não transferido. 1997 ;[citado 2024 set. 11 ]

USP Schools

ReP

Filtros

Subjects