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  • Unidade: IPEN

    Subjects: VAPOR ATMOSFÉRICO, RADAR, SENSORIAMENTO REMOTO

    Acesso à fonteHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      TORRES, Ani Sobral; LANDULFO, Eduardo. Desenvolvimento de uma metodologia de calibração independente para um lidar raman na obtencao e estudo de perfis de vapor d'agua atmosferico. 2008.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-26082009-135640/ >.
    • APA

      Torres, A. S., & Landulfo, E. (2008). Desenvolvimento de uma metodologia de calibração independente para um lidar raman na obtencao e estudo de perfis de vapor d'agua atmosferico. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-26082009-135640/
    • NLM

      Torres AS, Landulfo E. Desenvolvimento de uma metodologia de calibração independente para um lidar raman na obtencao e estudo de perfis de vapor d'agua atmosferico [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-26082009-135640/
    • Vancouver

      Torres AS, Landulfo E. Desenvolvimento de uma metodologia de calibração independente para um lidar raman na obtencao e estudo de perfis de vapor d'agua atmosferico [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-26082009-135640/
  • Unidade: EP

    Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), SILÍCIO

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    • ABNT

      TORRES, Ani Sobral; MANSANO, Ronaldo Domingues. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2002.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002.
    • APA

      Torres, A. S., & Mansano, R. D. (2002). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2002 ;
    • Vancouver

      Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2002 ;

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