Assunto: RESISTÊNCIA DOS MATERIAIS
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ABNT
SILVA, Claudio Morais de Assis. Estudo e determinação de um processo fotolitográfico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicação industrial. 1994. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14082024-103929/pt-br.php. Acesso em: 25 set. 2024.APA
Silva, C. M. de A. (1994). Estudo e determinação de um processo fotolitográfico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicação industrial (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14082024-103929/pt-br.phpNLM
Silva CM de A. Estudo e determinação de um processo fotolitográfico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicação industrial [Internet]. 1994 ;[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14082024-103929/pt-br.phpVancouver
Silva CM de A. Estudo e determinação de um processo fotolitográfico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicação industrial [Internet]. 1994 ;[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14082024-103929/pt-br.php