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Trabalho de evento
Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer (2007)
Albertin, Katia Franklin ; Valle, M A; Pereyra, Inés
Source: SBMicro 2007. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
ALBERTIN, Katia Franklin; VALLE, M A; PEREYRA, Inés. Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer. Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2007.
APA
Albertin, K. F., Valle, M. A., & Pereyra, I. (2007). Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer. In SBMicro 2007. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Albertin KF, Valle MA, Pereyra I. Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer. SBMicro 2007. 2007 ;
Vancouver
Albertin KF, Valle MA, Pereyra I. Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer. SBMicro 2007. 2007 ;
Artigo de periodico
Structural and electronic properties of... (2005)
Justo Filho, João Francisco ; Silva, C R S da; Pereyra, Inés ; Assali, L. V. C.
Source: Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum. Unidades: EP, IF
Subjects: MATÉRIA CONDENSADA, ESTRUTURA ELETRÔNICA, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS
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ABNT
JUSTO FILHO, João Francisco; SILVA, C R S da; PEREYRA, Inés; ASSALI, L. V. C. Structural and electronic properties of.. Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum, Zurich-Uetikon, Trans Tech Publications, v. 483, p. 577-580, 2005.
APA
Justo Filho, J. F., Silva, C. R. S. da, Pereyra, I., & Assali, L. V. C. (2005). Structural and electronic properties of.. Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum, 483, 577-580.
NLM
Justo Filho JF, Silva CRS da, Pereyra I, Assali LVC. Structural and electronic properties of.. Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum. 2005 ; 483 577-580.
Vancouver
Justo Filho JF, Silva CRS da, Pereyra I, Assali LVC. Structural and electronic properties of.. Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum. 2005 ; 483 577-580.
Artigo de periodico
A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide (2005)
Silva, C R S da; Justo Filho, João Francisco ; Pereyra, Inés ; Assali, L. V. C.
Source: Diamond & Related Materials. Unidades: EP, IF
Subjects: MATERIAIS, ESTRUTURA DOS MATERIAIS, CRISTALOGRAFIA FÍSICA
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ABNT
SILVA, C R S da; JUSTO FILHO, João Francisco; PEREYRA, Inés; ASSALI, L. V. C. A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide. Diamond & Related Materials, Lausanne, Elsevier Science, v. 14, n. 3-7, p. 1142-1145, 2005. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5572&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=28f8fe4645603cb9bd4325cf2c7393bd > DOI: 10.1016/j.diamond.2004.12.011.
APA
Silva, C. R. S. da, Justo Filho, J. F., Pereyra, I., & Assali, L. V. C. (2005). A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide. Diamond & Related Materials, 14( 3-7), 1142-1145. doi:10.1016/j.diamond.2004.12.011
NLM
Silva CRS da, Justo Filho JF, Pereyra I, Assali LVC. A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide [Internet]. Diamond & Related Materials. 2005 ; 14( 3-7): 1142-1145.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5572&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=28f8fe4645603cb9bd4325cf2c7393bd
Vancouver
Silva CRS da, Justo Filho JF, Pereyra I, Assali LVC. A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide [Internet]. Diamond & Related Materials. 2005 ; 14( 3-7): 1142-1145.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5572&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=28f8fe4645603cb9bd4325cf2c7393bd
Trabalho de evento-resumo
Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados (2004)
Siqueira, Vinícius Valério de; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Iguchi, Kleber; Pereyra, Inés
Source: SIICUSP 2004: resumos.. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: DISPOSITIVOS ÓPTICOS
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ABNT
SIQUEIRA, Vinícius Valério de; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; IGUCHI, Kleber; PEREYRA, Inés. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados. Anais.. São Paulo: USP, 2004.Disponível em: .
APA
Siqueira, V. V. de, Alayo Chávez, M. I., Iguchi, K., & Pereyra, I. (2004). Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados. In SIICUSP 2004: resumos.. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm
NLM
Siqueira VV de, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados [Internet]. SIICUSP 2004: resumos. 2004 ;Available from: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm
Vancouver
Siqueira VV de, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados [Internet]. SIICUSP 2004: resumos. 2004 ;Available from: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm
Artigo de periodico
Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application (2004)
Escobar Forhan, Neisy Amparo; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Subjects: FILMES FINOS, NANOTECNOLOGIA, ESTRUTURA DOS MATERIAIS
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ABNT
ESCOBAR FORHAN, Neisy Amparo; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PEREYRA, Inés. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application. Journal of Non-Crystalline Solids, Amsterdam, Elsevier Science, v. 338-340, 2004. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf >.
APA
Escobar Forhan, N. A., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2004). Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application. Journal of Non-Crystalline Solids, 338-340. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
NLM
Escobar Forhan NA, Fantini MC de A, Pereyra I. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2004 ; 338-340Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
Vancouver
Escobar Forhan NA, Fantini MC de A, Pereyra I. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2004 ; 338-340Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
Trabalho de evento-resumo
Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride (2003)
Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Prado, R J; Orellana, W; Silva, Antonio Jose Roque da ; Fazzio, Adalberto ; Pereyra, Inés
Source: Book of Abstracts. Conference titles: Brazilian Workshop on Semiconductor Physics. Unidades: IF, EP
Subjects: SEMICONDUTORES, ESTRUTURA ELETRÔNICA
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PRADO, R J; et al. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. Anais.. Fortaleza: DF/UFC, 2003.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Prado, R. J., Orellana, W., Silva, A. J. R. da, Fazzio, A., & Pereyra, I. (2003). Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. In Book of Abstracts. Fortaleza: DF/UFC.
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Prado RJ, Orellana W, Silva AJR da, Fazzio A, Pereyra I. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. Book of Abstracts. 2003 ;
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Prado RJ, Orellana W, Silva AJR da, Fazzio A, Pereyra I. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. Book of Abstracts. 2003 ;
Trabalho de evento-resumo
Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada (2003)
Silva, Bárbara Dariano; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Iguchi, Kleber; Pereyra, Inés
Source: 11 SIICUSP 2003 : resumos.. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: DISPOSITIVOS ÓPTICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Bárbara Dariano; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; IGUCHI, Kleber; PEREYRA, Inés. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada. Anais.. São Carlos: USP, 2003.Disponível em: .
APA
Silva, B. D., Alayo Chávez, M. I., Iguchi, K., & Pereyra, I. (2003). Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada. In 11 SIICUSP 2003 : resumos.. São Carlos: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm
NLM
Silva BD, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada [Internet]. 11 SIICUSP 2003 : resumos. 2003 ;Available from: http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm
Vancouver
Silva BD, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada [Internet]. 11 SIICUSP 2003 : resumos. 2003 ;Available from: http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm
Parte de monografia/livro
Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation (2003)
Escobar Forhan, Neisy Amparo; Pereyra, Inés
Source: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ESCOBAR FORHAN, Neisy Amparo; PEREYRA, Inés. Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003[S.l: s.n.], 2003.
APA
Escobar Forhan, N. A., & Pereyra, I. (2003). Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Escobar Forhan NA, Pereyra I. Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003.
Vancouver
Escobar Forhan NA, Pereyra I. Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003.
Artigo de periodico
Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H (2003)
Prado, J. R; D'Addio, T. F; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés ; Flank, A. M
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Assunto: FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PRADO, J. R; D'ADDIO, T. F; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PEREYRA, Inés; FLANK, A. M. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H. Journal of Non-Crystalline Solids, Amsterdam, v. 330, n. 1-3, p. 196-215, 2003. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/ >.
APA
Prado, J. R., D'Addio, T. F., Fantini, M. C. de A., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2003). Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H. Journal of Non-Crystalline Solids, 330( 1-3), 196-215. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
NLM
Prado JR, D'Addio TF, Fantini MC de A, Pereyra I, Flank AM. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2003 ; 330( 1-3): 196-215.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
Vancouver
Prado JR, D'Addio TF, Fantini MC de A, Pereyra I, Flank AM. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2003 ; 330( 1-3): 196-215.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
Trabalho de evento-resumo
Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films (2002)
Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Programa e Livro de Resumos. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais. Unidades: EP, IF
Subjects: MATERIAIS, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés; SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. Anais.. Rio de Janeiro: SBPMat, 2002.
APA
Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., Scopel, W. L., & Fantini, M. C. de A. (2002). Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. In Programa e Livro de Resumos. Rio de Janeiro: SBPMat.
NLM
Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. Programa e Livro de Resumos. 2002 ;
Vancouver
Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. Programa e Livro de Resumos. 2002 ;
Artigo de periodico
Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD (2002)
Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Brazilian Journal of Physics. Unidades: IF, EP
Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, ESPECTROMETRIA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD. Brazilian Journal of Physics, São Paulo, v. 32, n. 2A, p. 366-368, 2002. Disponível em: < http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf >.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD. Brazilian Journal of Physics, 32( 2A), 366-368. Recuperado de http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2002 ; 32( 2A): 366-368.Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2002 ; 32( 2A): 366-368.Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
Artigo de periodico
Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films (2002)
Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP
Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, ESPECTROMETRIA, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, Lausanne, v. 413, n. 1-2, p. 59-64, 2002. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064 > DOI: 10.1016/s0040-6090(02)00346-2.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, 413( 1-2), 59-64. doi:10.1016/s0040-6090(02)00346-2
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
Artigo de periodico
On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films (2002)
Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP
Subjects: FÍSICA DE PLASMAS, DIELÉTRICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés; SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films. Thin Solid Films, Lausanne, v. 402, n. 1-2, p. 154-161, 2002. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064 >.
APA
Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., Scopel, W. L., & Fantini, M. C. de A. (2002). On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films. Thin Solid Films, 402( 1-2), 154-161. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
NLM
Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 402( 1-2): 154-161.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
Vancouver
Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 402( 1-2): 154-161.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
Parte de monografia/livro
3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures (2002)
Páez Carreño, Marcelo Nelson ; Lopes, A.T.; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson; LOPES, A.T.; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002[S.l: s.n.], 2002.
APA
Páez Carreño, M. N., Lopes, A. T., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Páez Carreño MN, Lopes AT, Alayo Chávez MI, Pereyra I. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002.
Vancouver
Páez Carreño MN, Lopes AT, Alayo Chávez MI, Pereyra I. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002.
Artigo de periodico
Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films (2001)
Prado, R J; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Tabacniks, Manfredo Harri ; Villacorta Cardoso, Carlos Alberto ; Pereyra, Inés ; Flank, A M
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Assunto: QUÍMICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PRADO, R J; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; TABACNIKS, Manfredo Harri; et al. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films. Journal of Non-Crystalline Solids, Amsterdam, v. 283, n. 1-3, p. 1-10, 2001. Disponível em: < http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v283i1-3&article=1_iotlooahscf&form=pdf&file=file.pdf > DOI: 10.1016/s0022-3093(01)00489-6.
APA
Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Tabacniks, M. H., Villacorta Cardoso, C. A., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2001). Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films. Journal of Non-Crystalline Solids, 283( 1-3), 1-10. doi:10.1016/s0022-3093(01)00489-6
NLM
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Villacorta Cardoso CA, Pereyra I, Flank AM. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 283( 1-3): 1-10.Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v283i1-3&article=1_iotlooahscf&form=pdf&file=file.pdf
Vancouver
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Villacorta Cardoso CA, Pereyra I, Flank AM. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 283( 1-3): 1-10.Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v283i1-3&article=1_iotlooahscf&form=pdf&file=file.pdf
Artigo de periodico
Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (2001)
Scopel, Wanderla Luis ; Cuzinatto, R R; Tabacniks, Manfredo Harri ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Subjects: MATÉRIA CONDENSADA (PROPRIEDADES MECÂNICAS), MATERIAIS, MATERIAIS, SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis; CUZINATTO, R R; TABACNIKS, Manfredo Harri; et al. Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. Journal of Non-Crystalline Solids, Amsterdam, v. 288, n. 1-3, p. 88-95, 2001. Disponível em: < http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v288i1-3&article=88_campoabpecvd&form=pdf&file=file.pdf > DOI: 10.1016/s0022-3093(01)00608-1.
APA
Scopel, W. L., Cuzinatto, R. R., Tabacniks, M. H., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2001). Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. Journal of Non-Crystalline Solids, 288( 1-3), 88-95. doi:10.1016/s0022-3093(01)00608-1
NLM
Scopel WL, Cuzinatto RR, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 288( 1-3): 88-95.Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v288i1-3&article=88_campoabpecvd&form=pdf&file=file.pdf
Vancouver
Scopel WL, Cuzinatto RR, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 288( 1-3): 88-95.Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v288i1-3&article=88_campoabpecvd&form=pdf&file=file.pdf
Trabalho de evento-resumo
Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo (2001)
Cassaniga, Rafael Franchi; Ramírez Fernandez, Francisco Javier ; Pereyra, Inés
Source: 9 SIICUSP; XVII CICTE: resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
CASSANIGA, Rafael Franchi; RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier; PEREYRA, Inés. Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo. Anais.. São Paulo: USP, 2001.
APA
Cassaniga, R. F., Ramírez Fernandez, F. J., & Pereyra, I. (2001). Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo. In 9 SIICUSP; XVII CICTE: resumos. São Paulo: USP.
NLM
Cassaniga RF, Ramírez Fernandez FJ, Pereyra I. Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo. 9 SIICUSP; XVII CICTE: resumos. 2001 ;
Vancouver
Cassaniga RF, Ramírez Fernandez FJ, Pereyra I. Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo. 9 SIICUSP; XVII CICTE: resumos. 2001 ;
Artigo de periodico
Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD (2000)
Pereyra, Inés ; Villacorta, C A; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Prado, R J; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Brazilian Journal of Physics. Unidades: EP, IF
Assunto: FÍSICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PEREYRA, Inés; VILLACORTA, C A; PAEZ CARREÑO, Marcelo Nelson; PRADO, R J; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD. Brazilian Journal of Physics, São Paulo, v. 30, n. 3, p. 533-540, 2000. Disponível em: < http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol30/Num3/v30_533.pdf > DOI: 10.1590/s0103-97332000000300009.
APA
Pereyra, I., Villacorta, C. A., Paez Carreño, M. N., Prado, R. J., & Fantini, M. C. de A. (2000). Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD. Brazilian Journal of Physics, 30( 3), 533-540. doi:10.1590/s0103-97332000000300009
NLM
Pereyra I, Villacorta CA, Paez Carreño MN, Prado RJ, Fantini MC de A. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2000 ; 30( 3): 533-540.Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol30/Num3/v30_533.pdf
Vancouver
Pereyra I, Villacorta CA, Paez Carreño MN, Prado RJ, Fantini MC de A. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2000 ; 30( 3): 533-540.Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol30/Num3/v30_533.pdf
Trabalho de evento-resumo
Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H (2000)
Scopel, Wanderla Luis; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Resumos de Trabalhos. Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS. Unidades: IF, EP
Subjects: ÓPTICA, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. Anais.. Campinas: LNLS, 2000.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2000). Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS.
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. Resumos de Trabalhos. 2000 ;
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. Resumos de Trabalhos. 2000 ;
Trabalho de evento-resumo
Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado (2000)
Scopel, Wanderla Luis; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Resumos de Trabalhos. Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS. Unidades: IF, EP
Subjects: ÓPTICA, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PEREYRA, Inés. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. Anais.. Campinas: LNLS, 2000.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2000). Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS.
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Pereyra I. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. Resumos de Trabalhos. 2000 ;
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Pereyra I. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. Resumos de Trabalhos. 2000 ;

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