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  • Source: SBMicro 2007. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP

    Assunto: MICROELETRÔNICA

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    • ABNT

      ALBERTIN, Katia Franklin; VALLE, M A; PEREYRA, Inés. Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer. Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2007.
    • APA

      Albertin, K. F., Valle, M. A., & Pereyra, I. (2007). Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer. In SBMicro 2007. Pennington: The Electrochemical Society.
    • NLM

      Albertin KF, Valle MA, Pereyra I. Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer. SBMicro 2007. 2007 ;
    • Vancouver

      Albertin KF, Valle MA, Pereyra I. Study of MOS capacitors with annealed TiO2 gate dielectric layer. SBMicro 2007. 2007 ;
  • Source: Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum. Unidades: EP, IF

    Subjects: MATÉRIA CONDENSADA, ESTRUTURA ELETRÔNICA, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS

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    • ABNT

      JUSTO FILHO, João Francisco; SILVA, C R S da; PEREYRA, Inés; ASSALI, L. V. C. Structural and electronic properties of.. Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum, Zurich-Uetikon, Trans Tech Publications, v. 483, p. 577-580, 2005.
    • APA

      Justo Filho, J. F., Silva, C. R. S. da, Pereyra, I., & Assali, L. V. C. (2005). Structural and electronic properties of.. Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum, 483, 577-580.
    • NLM

      Justo Filho JF, Silva CRS da, Pereyra I, Assali LVC. Structural and electronic properties of.. Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum. 2005 ; 483 577-580.
    • Vancouver

      Justo Filho JF, Silva CRS da, Pereyra I, Assali LVC. Structural and electronic properties of.. Silicon Carbide and Related Materials 2004 - Materials Science Forum. 2005 ; 483 577-580.
  • Source: Diamond & Related Materials. Unidades: EP, IF

    Subjects: MATERIAIS, ESTRUTURA DOS MATERIAIS, CRISTALOGRAFIA FÍSICA

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    • ABNT

      SILVA, C R S da; JUSTO FILHO, João Francisco; PEREYRA, Inés; ASSALI, L. V. C. A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide. Diamond & Related Materials, Lausanne, Elsevier Science, v. 14, n. 3-7, p. 1142-1145, 2005. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5572&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=28f8fe4645603cb9bd4325cf2c7393bd > DOI: 10.1016/j.diamond.2004.12.011.
    • APA

      Silva, C. R. S. da, Justo Filho, J. F., Pereyra, I., & Assali, L. V. C. (2005). A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide. Diamond & Related Materials, 14( 3-7), 1142-1145. doi:10.1016/j.diamond.2004.12.011
    • NLM

      Silva CRS da, Justo Filho JF, Pereyra I, Assali LVC. A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide [Internet]. Diamond & Related Materials. 2005 ; 14( 3-7): 1142-1145.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5572&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=28f8fe4645603cb9bd4325cf2c7393bd
    • Vancouver

      Silva CRS da, Justo Filho JF, Pereyra I, Assali LVC. A first principles investigation on hypothetical crystalline phases of silicon oxycarbide [Internet]. Diamond & Related Materials. 2005 ; 14( 3-7): 1142-1145.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5572&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=28f8fe4645603cb9bd4325cf2c7393bd
  • Source: SIICUSP 2004: resumos.. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP

    Assunto: DISPOSITIVOS ÓPTICOS

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    • ABNT

      SIQUEIRA, Vinícius Valério de; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; IGUCHI, Kleber; PEREYRA, Inés. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados. Anais.. São Paulo: USP, 2004.Disponível em: .
    • APA

      Siqueira, V. V. de, Alayo Chávez, M. I., Iguchi, K., & Pereyra, I. (2004). Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados. In SIICUSP 2004: resumos.. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm
    • NLM

      Siqueira VV de, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados [Internet]. SIICUSP 2004: resumos. 2004 ;Available from: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm
    • Vancouver

      Siqueira VV de, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados [Internet]. SIICUSP 2004: resumos. 2004 ;Available from: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm
  • Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP

    Subjects: FILMES FINOS, NANOTECNOLOGIA, ESTRUTURA DOS MATERIAIS

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    • ABNT

      ESCOBAR FORHAN, Neisy Amparo; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PEREYRA, Inés. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application. Journal of Non-Crystalline Solids, Amsterdam, Elsevier Science, v. 338-340, 2004. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf >.
    • APA

      Escobar Forhan, N. A., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2004). Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application. Journal of Non-Crystalline Solids, 338-340. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
    • NLM

      Escobar Forhan NA, Fantini MC de A, Pereyra I. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2004 ; 338-340Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
    • Vancouver

      Escobar Forhan NA, Fantini MC de A, Pereyra I. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2004 ; 338-340Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
  • Source: Book of Abstracts. Conference titles: Brazilian Workshop on Semiconductor Physics. Unidades: IF, EP

    Subjects: SEMICONDUTORES, ESTRUTURA ELETRÔNICA

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    • ABNT

      SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PRADO, R J; et al. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. Anais.. Fortaleza: DF/UFC, 2003.
    • APA

      Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Prado, R. J., Orellana, W., Silva, A. J. R. da, Fazzio, A., & Pereyra, I. (2003). Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. In Book of Abstracts. Fortaleza: DF/UFC.
    • NLM

      Scopel WL, Fantini MC de A, Prado RJ, Orellana W, Silva AJR da, Fazzio A, Pereyra I. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. Book of Abstracts. 2003 ;
    • Vancouver

      Scopel WL, Fantini MC de A, Prado RJ, Orellana W, Silva AJR da, Fazzio A, Pereyra I. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. Book of Abstracts. 2003 ;
  • Source: 11 SIICUSP 2003 : resumos.. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP

    Assunto: DISPOSITIVOS ÓPTICOS

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    • ABNT

      SILVA, Bárbara Dariano; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; IGUCHI, Kleber; PEREYRA, Inés. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada. Anais.. São Carlos: USP, 2003.Disponível em: .
    • APA

      Silva, B. D., Alayo Chávez, M. I., Iguchi, K., & Pereyra, I. (2003). Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada. In 11 SIICUSP 2003 : resumos.. São Carlos: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm
    • NLM

      Silva BD, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada [Internet]. 11 SIICUSP 2003 : resumos. 2003 ;Available from: http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm
    • Vancouver

      Silva BD, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada [Internet]. 11 SIICUSP 2003 : resumos. 2003 ;Available from: http://www.usp.br/siicusp/11osiicusp/index01.htm
  • Source: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Unidade: EP

    Assunto: MICROELETRÔNICA

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    • ABNT

      ESCOBAR FORHAN, Neisy Amparo; PEREYRA, Inés. Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003[S.l: s.n.], 2003.
    • APA

      Escobar Forhan, N. A., & Pereyra, I. (2003). Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
    • NLM

      Escobar Forhan NA, Pereyra I. Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003.
    • Vancouver

      Escobar Forhan NA, Pereyra I. Silicon carbide clusters in silicon formed by carbon ions implantation. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003.
  • Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP

    Assunto: FILMES FINOS

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    • ABNT

      PRADO, J. R; D'ADDIO, T. F; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PEREYRA, Inés; FLANK, A. M. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H. Journal of Non-Crystalline Solids, Amsterdam, v. 330, n. 1-3, p. 196-215, 2003. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/ >.
    • APA

      Prado, J. R., D'Addio, T. F., Fantini, M. C. de A., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2003). Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H. Journal of Non-Crystalline Solids, 330( 1-3), 196-215. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
    • NLM

      Prado JR, D'Addio TF, Fantini MC de A, Pereyra I, Flank AM. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2003 ; 330( 1-3): 196-215.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
    • Vancouver

      Prado JR, D'Addio TF, Fantini MC de A, Pereyra I, Flank AM. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2003 ; 330( 1-3): 196-215.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
  • Source: Programa e Livro de Resumos. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais. Unidades: EP, IF

    Subjects: MATERIAIS, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS

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    • ABNT

      ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés; SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. Anais.. Rio de Janeiro: SBPMat, 2002.
    • APA

      Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., Scopel, W. L., & Fantini, M. C. de A. (2002). Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. In Programa e Livro de Resumos. Rio de Janeiro: SBPMat.
    • NLM

      Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. Programa e Livro de Resumos. 2002 ;
    • Vancouver

      Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. Programa e Livro de Resumos. 2002 ;
  • Source: Brazilian Journal of Physics. Unidades: IF, EP

    Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, ESPECTROMETRIA

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    • ABNT

      SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD. Brazilian Journal of Physics, São Paulo, v. 32, n. 2A, p. 366-368, 2002. Disponível em: < http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf >.
    • APA

      Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD. Brazilian Journal of Physics, 32( 2A), 366-368. Recuperado de http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
    • NLM

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2002 ; 32( 2A): 366-368.Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
    • Vancouver

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2002 ; 32( 2A): 366-368.Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
  • Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP

    Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, ESPECTROMETRIA, FILMES FINOS

    Acesso à fonteDOIHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, Lausanne, v. 413, n. 1-2, p. 59-64, 2002. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064 > DOI: 10.1016/s0040-6090(02)00346-2.
    • APA

      Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, 413( 1-2), 59-64. doi:10.1016/s0040-6090(02)00346-2
    • NLM

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
    • Vancouver

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
  • Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP

    Subjects: FÍSICA DE PLASMAS, DIELÉTRICOS

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    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés; SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films. Thin Solid Films, Lausanne, v. 402, n. 1-2, p. 154-161, 2002. Disponível em: < http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064 >.
    • APA

      Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., Scopel, W. L., & Fantini, M. C. de A. (2002). On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films. Thin Solid Films, 402( 1-2), 154-161. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
    • NLM

      Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 402( 1-2): 154-161.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
    • Vancouver

      Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) 'SiO IND.X''N IND.X' films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 402( 1-2): 154-161.Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5548&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=1610a8d66c939dd898e1017e927e8064
  • Source: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices. Unidade: EP

    Assunto: MICROELETRÔNICA

    How to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson; LOPES, A.T.; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002[S.l: s.n.], 2002.
    • APA

      Páez Carreño, M. N., Lopes, A. T., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
    • NLM

      Páez Carreño MN, Lopes AT, Alayo Chávez MI, Pereyra I. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002.
    • Vancouver

      Páez Carreño MN, Lopes AT, Alayo Chávez MI, Pereyra I. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002.
  • Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP

    Assunto: QUÍMICA

    Acesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      PRADO, R J; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; TABACNIKS, Manfredo Harri; et al. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films. Journal of Non-Crystalline Solids, Amsterdam, v. 283, n. 1-3, p. 1-10, 2001. Disponível em: < http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v283i1-3&article=1_iotlooahscf&form=pdf&file=file.pdf > DOI: 10.1016/s0022-3093(01)00489-6.
    • APA

      Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Tabacniks, M. H., Villacorta Cardoso, C. A., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2001). Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films. Journal of Non-Crystalline Solids, 283( 1-3), 1-10. doi:10.1016/s0022-3093(01)00489-6
    • NLM

      Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Villacorta Cardoso CA, Pereyra I, Flank AM. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 283( 1-3): 1-10.Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v283i1-3&article=1_iotlooahscf&form=pdf&file=file.pdf
    • Vancouver

      Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Villacorta Cardoso CA, Pereyra I, Flank AM. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 283( 1-3): 1-10.Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v283i1-3&article=1_iotlooahscf&form=pdf&file=file.pdf
  • Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP

    Subjects: MATÉRIA CONDENSADA (PROPRIEDADES MECÂNICAS), MATERIAIS, MATERIAIS, SEMICONDUTORES

    Acesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      SCOPEL, Wanderla Luis; CUZINATTO, R R; TABACNIKS, Manfredo Harri; et al. Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. Journal of Non-Crystalline Solids, Amsterdam, v. 288, n. 1-3, p. 88-95, 2001. Disponível em: < http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v288i1-3&article=88_campoabpecvd&form=pdf&file=file.pdf > DOI: 10.1016/s0022-3093(01)00608-1.
    • APA

      Scopel, W. L., Cuzinatto, R. R., Tabacniks, M. H., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2001). Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. Journal of Non-Crystalline Solids, 288( 1-3), 88-95. doi:10.1016/s0022-3093(01)00608-1
    • NLM

      Scopel WL, Cuzinatto RR, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 288( 1-3): 88-95.Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v288i1-3&article=88_campoabpecvd&form=pdf&file=file.pdf
    • Vancouver

      Scopel WL, Cuzinatto RR, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 288( 1-3): 88-95.Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=00223093&issue=v288i1-3&article=88_campoabpecvd&form=pdf&file=file.pdf
  • Source: 9 SIICUSP; XVII CICTE: resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP

    Assunto: MICROELETRÔNICA

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    • ABNT

      CASSANIGA, Rafael Franchi; RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier; PEREYRA, Inés. Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo. Anais.. São Paulo: USP, 2001.
    • APA

      Cassaniga, R. F., Ramírez Fernandez, F. J., & Pereyra, I. (2001). Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo. In 9 SIICUSP; XVII CICTE: resumos. São Paulo: USP.
    • NLM

      Cassaniga RF, Ramírez Fernandez FJ, Pereyra I. Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo. 9 SIICUSP; XVII CICTE: resumos. 2001 ;
    • Vancouver

      Cassaniga RF, Ramírez Fernandez FJ, Pereyra I. Aplicação de membranas em microbalança a cristal de quartzo. 9 SIICUSP; XVII CICTE: resumos. 2001 ;
  • Source: Brazilian Journal of Physics. Unidades: EP, IF

    Assunto: FÍSICA

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    • ABNT

      PEREYRA, Inés; VILLACORTA, C A; PAEZ CARREÑO, Marcelo Nelson; PRADO, R J; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD. Brazilian Journal of Physics, São Paulo, v. 30, n. 3, p. 533-540, 2000. Disponível em: < http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol30/Num3/v30_533.pdf > DOI: 10.1590/s0103-97332000000300009.
    • APA

      Pereyra, I., Villacorta, C. A., Paez Carreño, M. N., Prado, R. J., & Fantini, M. C. de A. (2000). Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD. Brazilian Journal of Physics, 30( 3), 533-540. doi:10.1590/s0103-97332000000300009
    • NLM

      Pereyra I, Villacorta CA, Paez Carreño MN, Prado RJ, Fantini MC de A. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2000 ; 30( 3): 533-540.Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol30/Num3/v30_533.pdf
    • Vancouver

      Pereyra I, Villacorta CA, Paez Carreño MN, Prado RJ, Fantini MC de A. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2000 ; 30( 3): 533-540.Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol30/Num3/v30_533.pdf
  • Source: Resumos de Trabalhos. Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS. Unidades: IF, EP

    Subjects: ÓPTICA, MICROELETRÔNICA

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    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías; PEREYRA, Inés. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. Anais.. Campinas: LNLS, 2000.
    • APA

      Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2000). Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS.
    • NLM

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. Resumos de Trabalhos. 2000 ;
    • Vancouver

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Caracterização química e morfológica de filmes Si'O IND.X' 'N IND.Y':H. Resumos de Trabalhos. 2000 ;
  • Source: Resumos de Trabalhos. Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS. Unidades: IF, EP

    Subjects: ÓPTICA, FILMES FINOS

    How to cite
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    • ABNT

      SCOPEL, Wanderla Luis; FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PEREYRA, Inés. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. Anais.. Campinas: LNLS, 2000.
    • APA

      Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2000). Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS.
    • NLM

      Scopel WL, Fantini MC de A, Pereyra I. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. Resumos de Trabalhos. 2000 ;
    • Vancouver

      Scopel WL, Fantini MC de A, Pereyra I. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. Resumos de Trabalhos. 2000 ;

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