Silva, Nicolas Fernandes; Batista, Ana Paula dos Santos 
; Teixeira, Antonio Carlos S. C. ; Carrillo Le Roux, Galo Antonio
Subjects: DEGRADAÇÃO AMBIENTAL, SULFONAMIDAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Nicolas Fernandes et al. Fotodegradação de mistura de sulfonamidas por meio do processo H2O2/UV na presença de matéria orgânica dissolvida. 2016, Anais.. São Paulo: Pro-Reitoria de Pesquisa/USP, 2016. Disponível em: https://uspdigital.usp.br/siicusp/siicPublicacao.jsp?codmnu=7210. Acesso em: 14 fev. 2026.APA
Silva, N. F., Batista, A. P. dos S., Teixeira, A. C. S. C., & Carrillo Le Roux, G. A. (2016). Fotodegradação de mistura de sulfonamidas por meio do processo H2O2/UV na presença de matéria orgânica dissolvida. In . São Paulo: Pro-Reitoria de Pesquisa/USP. Recuperado de https://uspdigital.usp.br/siicusp/siicPublicacao.jsp?codmnu=7210NLM
Silva NF, Batista AP dos S, Teixeira ACSC, Carrillo Le Roux GA. Fotodegradação de mistura de sulfonamidas por meio do processo H2O2/UV na presença de matéria orgânica dissolvida [Internet]. 2016 ;[citado 2026 fev. 14 ] Available from: https://uspdigital.usp.br/siicusp/siicPublicacao.jsp?codmnu=7210Vancouver
Silva NF, Batista AP dos S, Teixeira ACSC, Carrillo Le Roux GA. Fotodegradação de mistura de sulfonamidas por meio do processo H2O2/UV na presença de matéria orgânica dissolvida [Internet]. 2016 ;[citado 2026 fev. 14 ] Available from: https://uspdigital.usp.br/siicusp/siicPublicacao.jsp?codmnu=7210
