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Trabalho de evento-resumo
Estudo de estruturas submicrometricas auto-organizadas de copolimeros (2006)
Longaresi, R. H.; Faria, Roberto Mendonça ; Carvalho, A. J. F.; Silva, Marcelo de Assumpção Pereira da
Source: Resumos Estendidos. Conference titles: Simpósio em Ciência e Engenharia de Materiais - SICEM. Unidade: IFSC
Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS), FILMES FINOS, ELASTÔMEROS
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ABNT
LONGARESI, R. H. et al. Estudo de estruturas submicrometricas auto-organizadas de copolimeros. 2006, Anais.. São Carlos: EESC - IQSC - IFSC / USP, 2006. . Acesso em: 30 abr. 2026.
APA
Longaresi, R. H., Faria, R. M., Carvalho, A. J. F., & Silva, M. de A. P. da. (2006). Estudo de estruturas submicrometricas auto-organizadas de copolimeros. In Resumos Estendidos. São Carlos: EESC - IQSC - IFSC / USP.
NLM
Longaresi RH, Faria RM, Carvalho AJF, Silva M de AP da. Estudo de estruturas submicrometricas auto-organizadas de copolimeros. Resumos Estendidos. 2006 ;[citado 2026 abr. 30 ]
Vancouver
Longaresi RH, Faria RM, Carvalho AJF, Silva M de AP da. Estudo de estruturas submicrometricas auto-organizadas de copolimeros. Resumos Estendidos. 2006 ;[citado 2026 abr. 30 ]
Trabalho de evento-resumo
Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer (2006)
Silva, Marcelo de Assumpção Pereira da ; Carvalho, Antonio Felix; Longaresi, Rafael Henriques; Faria, Roberto Mendonça
Source: Final Program. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais - SBPMat. Unidade: IFSC
Subjects: NANOTECNOLOGIA, POLÍMEROS (MATERIAIS), FILMES FINOS, VIDRO, SOLVENTE
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ABNT
SILVA, Marcelo de Assumpção Pereira da et al. Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer. 2006, Anais.. Rio de Janeiro: Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais - SBPMat, 2006. . Acesso em: 30 abr. 2026.
APA
Silva, M. de A. P. da, Carvalho, A. F., Longaresi, R. H., & Faria, R. M. (2006). Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer. In Final Program. Rio de Janeiro: Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais - SBPMat.
NLM
Silva M de AP da, Carvalho AF, Longaresi RH, Faria RM. Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer. Final Program. 2006 ;[citado 2026 abr. 30 ]
Vancouver
Silva M de AP da, Carvalho AF, Longaresi RH, Faria RM. Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer. Final Program. 2006 ;[citado 2026 abr. 30 ]
Parte de monografia/livro
Atomic force microscopy on polyelectrolyte adsorbed layers (2005)
Raposo, Maria; Ribeiro, Paulo Antônio; Silva, Marcelo de Assumpção Pereira da ; Oliveira Junior, Osvaldo Novais de
Source: Current issues on multidisciplinary microscopy research and education. Unidade: IFSC
Subjects: FILMES FINOS, POLÍMEROS (MATERIAIS), LASER, MICROSCOPIA ELETRÔNICA
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ABNT
RAPOSO, Maria et al. Atomic force microscopy on polyelectrolyte adsorbed layers. Current issues on multidisciplinary microscopy research and education. Tradução . Badajoz: Associação Extremeña de Formación Tecnologica - FORMATEX, 2005. . . Acesso em: 30 abr. 2026.
APA
Raposo, M., Ribeiro, P. A., Silva, M. de A. P. da, & Oliveira Junior, O. N. de. (2005). Atomic force microscopy on polyelectrolyte adsorbed layers. In Current issues on multidisciplinary microscopy research and education. Badajoz: Associação Extremeña de Formación Tecnologica - FORMATEX.
NLM
Raposo M, Ribeiro PA, Silva M de AP da, Oliveira Junior ON de. Atomic force microscopy on polyelectrolyte adsorbed layers. In: Current issues on multidisciplinary microscopy research and education. Badajoz: Associação Extremeña de Formación Tecnologica - FORMATEX; 2005. [citado 2026 abr. 30 ]
Vancouver
Raposo M, Ribeiro PA, Silva M de AP da, Oliveira Junior ON de. Atomic force microscopy on polyelectrolyte adsorbed layers. In: Current issues on multidisciplinary microscopy research and education. Badajoz: Associação Extremeña de Formación Tecnologica - FORMATEX; 2005. [citado 2026 abr. 30 ]
Artigo de periodico
Hight-resolution photoelectron spectroscopy studies on W'O IND.3' films modified by Ag addition (2005)
Bittencourt, C.; Felten, A.; Mirabella, F.; Ivanov, P.; Llobet, E; Silva, Marcelo de Assumpção Pereira da ; Nunes, Luiz Antônio de Oliveira ; Pireaux, J. J.
Source: Journal of Physics: Condensed Matter. Unidade: IFSC
Subjects: ÓPTICA, TEMPERATURA, FILMES FINOS, MICROSCOPIA, ÁTOMOS, TUNGSTÊNIO
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ABNT
BITTENCOURT, C. et al. Hight-resolution photoelectron spectroscopy studies on W'O IND.3' films modified by Ag addition. Journal of Physics: Condensed Matter, v. No 2005, n. 43, p. 6813-6822, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1088/0953-8984/17/43/003. Acesso em: 30 abr. 2026.
APA
Bittencourt, C., Felten, A., Mirabella, F., Ivanov, P., Llobet, E., Silva, M. de A. P. da, et al. (2005). Hight-resolution photoelectron spectroscopy studies on W'O IND.3' films modified by Ag addition. Journal of Physics: Condensed Matter, No 2005( 43), 6813-6822. doi:10.1088/0953-8984/17/43/003
NLM
Bittencourt C, Felten A, Mirabella F, Ivanov P, Llobet E, Silva M de AP da, Nunes LA de O, Pireaux JJ. Hight-resolution photoelectron spectroscopy studies on W'O IND.3' films modified by Ag addition [Internet]. Journal of Physics: Condensed Matter. 2005 ; No 2005( 43): 6813-6822.[citado 2026 abr. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1088/0953-8984/17/43/003
Vancouver
Bittencourt C, Felten A, Mirabella F, Ivanov P, Llobet E, Silva M de AP da, Nunes LA de O, Pireaux JJ. Hight-resolution photoelectron spectroscopy studies on W'O IND.3' films modified by Ag addition [Internet]. Journal of Physics: Condensed Matter. 2005 ; No 2005( 43): 6813-6822.[citado 2026 abr. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1088/0953-8984/17/43/003

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