Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
YOSHIOKA, R T e TATSCH, P J e SWART, Jacobus Willibrordus. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 20 jul. 2025.APA
Yoshioka, R. T., Tatsch, P. J., & Swart, J. W. (1994). Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.NLM
Yoshioka RT, Tatsch PJ, Swart JW. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. Anais. 1994 ;[citado 2025 jul. 20 ]Vancouver
Yoshioka RT, Tatsch PJ, Swart JW. Decapagem de fotorresiste por plasma de 02 e sf6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de air bridge. Anais. 1994 ;[citado 2025 jul. 20 ]
