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Parte de monografia/livro
Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements (2002)
Pisani, Marcelo Bento; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PISANI, Marcelo Bento; VERDONCK, Patrick Bernard. Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002[S.l: s.n.], 2002.
APA
Pisani, M. B., & Verdonck, P. B. (2002). Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Pisani MB, Verdonck PB. Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002.
Vancouver
Pisani MB, Verdonck PB. Characterization of SF6 plasmas by RF electrical measurements. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002.
Tese
Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma (2001)
Pisani, Marcelo Bento; Verdonck, Patrick Bernard (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: MEDIDAS ELÉTRICAS, REATORES E TRANSFORMADORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PISANI, Marcelo Bento; VERDONCK, Patrick Bernard. Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma. 2001.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2001.
APA
Pisani, M. B., & Verdonck, P. B. (2001). Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma. Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Pisani MB, Verdonck PB. Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma. 2001 ;
Vancouver
Pisani MB, Verdonck PB. Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma. 2001 ;

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