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Relatorio tecnico
Aluminium etching with CC14-N2 plasma (1997)
Nakazawa, A M; Verdonck, Patrick Bernard
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
NAKAZAWA, A M; VERDONCK, Patrick Bernard. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. [S.l: s.n.], 1997.
APA
Nakazawa, A. M., & Verdonck, P. B. (1997). Aluminium etching with CC14-N2 plasma. São Paulo: EPUSP.
NLM
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. 1997 ;
Vancouver
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. 1997 ;
Trabalho de evento
Plasma etching of aluminium using Bc13-C12 mixtures. (em CD-Rom) (1997)
Nakazawa, A M; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
NAKAZAWA, A M; VERDONCK, Patrick Bernard. Plasma etching of aluminium using Bc13-C12 mixtures. (em CD-Rom). Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997.
APA
Nakazawa, A. M., & Verdonck, P. B. (1997). Plasma etching of aluminium using Bc13-C12 mixtures. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Nakazawa AM, Verdonck PB. Plasma etching of aluminium using Bc13-C12 mixtures. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;
Vancouver
Nakazawa AM, Verdonck PB. Plasma etching of aluminium using Bc13-C12 mixtures. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;
Trabalho de evento
Aluminium etching with cc14-n2 plasmas (1996)
Nakazawa, A M; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
NAKAZAWA, A M; VERDONCK, Patrick Bernard. Aluminium etching with cc14-n2 plasmas. Anais.. São Paulo: Sbmicro, 1996.
APA
Nakazawa, A. M., & Verdonck, P. B. (1996). Aluminium etching with cc14-n2 plasmas. In Proceedings. São Paulo: Sbmicro.
NLM
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with cc14-n2 plasmas. Proceedings. 1996 ;
Vancouver
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with cc14-n2 plasmas. Proceedings. 1996 ;

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