Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidade: IF
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
ABNT
SUCASAIRE, Wilmer et al. Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2004, Anais.. São Paulo: SBF, 2004. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R1409-1.pdf. Acesso em: 27 set. 2024.APA
Sucasaire, W., Matsuoka, M., Mittani, J. C. R., Lopes, K. C., & Zambom, L. da S. (2004). Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. In Resumos. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R1409-1.pdfNLM
Sucasaire W, Matsuoka M, Mittani JCR, Lopes KC, Zambom L da S. Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente [Internet]. Resumos. 2004 ;[citado 2024 set. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R1409-1.pdfVancouver
Sucasaire W, Matsuoka M, Mittani JCR, Lopes KC, Zambom L da S. Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente [Internet]. Resumos. 2004 ;[citado 2024 set. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R1409-1.pdf