Morimoto, Nilton Itiro 
; Cardoso, A R; Silva, Maria Lucia Pereira da; Shibata, Newton Yoshiyuki; Escote, Adolfo Tsuyama; Matsumura, W T; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro et al. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 18 nov. 2024.APA
Morimoto, N. I., Cardoso, A. R., Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., & Swart, J. W. (1992). Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.NLM
Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 18 ]Vancouver
Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 18 ]
