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Artigo de periodico
Montagem e caracterização do sistema de deposição assistida por feixe de íons (2006)
Lopes, K C; Matsuoka, Masao; Sucasaire, W; Mittani, Juan Carlos Ramirez; Perego, C C; Tromba, Antonio Carlos; Morais, O B de; Meira, A O R
Source: Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. Unidade: IF
Subjects: FEIXES, ÍONS
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ABNT
LOPES, K C et al. Montagem e caracterização do sistema de deposição assistida por feixe de íons. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, v. 25, n. 3, p. 131-134, 2006Tradução . . Disponível em: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/revistavol253/25_3_131.pdf. Acesso em: 05 maio 2026.
APA
Lopes, K. C., Matsuoka, M., Sucasaire, W., Mittani, J. C. R., Perego, C. C., Tromba, A. C., et al. (2006). Montagem e caracterização do sistema de deposição assistida por feixe de íons. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, 25( 3), 131-134. Recuperado de http://www.sbvacuo.org.br/rbav/revistavol253/25_3_131.pdf
NLM
Lopes KC, Matsuoka M, Sucasaire W, Mittani JCR, Perego CC, Tromba AC, Morais OB de, Meira AOR. Montagem e caracterização do sistema de deposição assistida por feixe de íons [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2006 ; 25( 3): 131-134.[citado 2026 maio 05 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/revistavol253/25_3_131.pdf
Vancouver
Lopes KC, Matsuoka M, Sucasaire W, Mittani JCR, Perego CC, Tromba AC, Morais OB de, Meira AOR. Montagem e caracterização do sistema de deposição assistida por feixe de íons [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2006 ; 25( 3): 131-134.[citado 2026 maio 05 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/revistavol253/25_3_131.pdf
Trabalho de evento-resumo
Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente (2004)
Sucasaire, Wilmer; Matsuoka, Masao; Mittani, Juan Carlos Ramirez; Lopes, K C; Zambom, Luís da Silva
Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidade: IF
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
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ABNT
SUCASAIRE, Wilmer et al. Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2004, Anais.. São Paulo: SBF, 2004. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R1409-1.pdf. Acesso em: 05 maio 2026.
APA
Sucasaire, W., Matsuoka, M., Mittani, J. C. R., Lopes, K. C., & Zambom, L. da S. (2004). Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. In Resumos. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R1409-1.pdf
NLM
Sucasaire W, Matsuoka M, Mittani JCR, Lopes KC, Zambom L da S. Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente [Internet]. Resumos. 2004 ;[citado 2026 maio 05 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R1409-1.pdf
Vancouver
Sucasaire W, Matsuoka M, Mittani JCR, Lopes KC, Zambom L da S. Caracterização de filmes de nitreto de silício formados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente [Internet]. Resumos. 2004 ;[citado 2026 maio 05 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R1409-1.pdf

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