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Trabalho de evento-anais periodico
Factors Influencing the Electrochromic Properties of Nickel Oxide Thin Films Derived from Sol-Gel Method by Dip Coating (2011)
Sharma, Pramod K.; Fantini, Márcia ; Fischer, H.; Craievich, A. F. ; Gorenstein, A.
Source: MRS Online Proceedings Library. Conference titles: Symposium on Solid-State Chemistry of Inorganic Materials II. Unidade: IF
Subjects: FÍSICO-QUÍMICA, MATERIAIS, FILMES FINOS, ESPALHAMENTO DE RAIOS X A BAIXOS ÂNGULOS
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ABNT
SHARMA, Pramod K. et al. Factors Influencing the Electrochromic Properties of Nickel Oxide Thin Films Derived from Sol-Gel Method by Dip Coating. MRS Online Proceedings Library. Warrendale: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1557/PROC-547-351. Acesso em: 29 set. 2024. , 2011
APA
Sharma, P. K., Fantini, M., Fischer, H., Craievich, A. F., & Gorenstein, A. (2011). Factors Influencing the Electrochromic Properties of Nickel Oxide Thin Films Derived from Sol-Gel Method by Dip Coating. MRS Online Proceedings Library. Warrendale: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. doi:10.1557/PROC-547-351
NLM
Sharma PK, Fantini M, Fischer H, Craievich AF, Gorenstein A. Factors Influencing the Electrochromic Properties of Nickel Oxide Thin Films Derived from Sol-Gel Method by Dip Coating [Internet]. MRS Online Proceedings Library. 2011 ; 547 351-356.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1557/PROC-547-351
Vancouver
Sharma PK, Fantini M, Fischer H, Craievich AF, Gorenstein A. Factors Influencing the Electrochromic Properties of Nickel Oxide Thin Films Derived from Sol-Gel Method by Dip Coating [Internet]. MRS Online Proceedings Library. 2011 ; 547 351-356.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1557/PROC-547-351
Artigo de periodico
Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes (2006)
Souza, E. A.; Santos, A. O. dos; Cardoso, L. P.; Tabacniks, Manfredo ; Landers, R.; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, VANÁDIO, ELETRODO, LÍTIO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes. Journal of Power Sources, v. 162, n. 1, p. 679-684, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011. Acesso em: 29 set. 2024.
APA
Souza, E. A., Santos, A. O. dos, Cardoso, L. P., Tabacniks, M., Landers, R., & Gorenstein, A. (2006). Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes. Journal of Power Sources, 162( 1), 679-684. doi:10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
NLM
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 162( 1): 679-684.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
Vancouver
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 162( 1): 679-684.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
Artigo de periodico
Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films (2006)
Souza, E. A.; Landers, R.; Tabacniks, Manfredo ; Cardoso, L. P.; Gorenstein, A.
Source: Electrochimica Acta. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, VANÁDIO, ÍONS, ELETRODO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films. Electrochimica Acta, v. 51, n. 26, p. 5885-5891, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024. Acesso em: 29 set. 2024.
APA
Souza, E. A., Landers, R., Tabacniks, M., Cardoso, L. P., & Gorenstein, A. (2006). Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films. Electrochimica Acta, 51( 26), 5885-5891. doi:10.1016/j.electacta.2006.03.024
NLM
Souza EA, Landers R, Tabacniks M, Cardoso LP, Gorenstein A. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films [Internet]. Electrochimica Acta. 2006 ; 51( 26): 5885-5891.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024
Vancouver
Souza EA, Landers R, Tabacniks M, Cardoso LP, Gorenstein A. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films [Internet]. Electrochimica Acta. 2006 ; 51( 26): 5885-5891.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024
Artigo de periodico
Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries (2006)
Souza, E. A.; Santos, A. O. dos; Cardoso, L. P.; Tabacniks, Manfredo; Landers, R.; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, ÍONS, LÍTIO, ELETRODO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries. Journal of Power Sources, v. 155, n. 2, p. 358-36321 de abril de 2006, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014. Acesso em: 29 set. 2024.
APA
Souza, E. A., Santos, A. O. dos, Cardoso, L. P., Tabacniks, M., Landers, R., & Gorenstein, A. (2006). Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries. Journal of Power Sources, 155( 2), 358-36321 de abril de 2006. doi:10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
NLM
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 155( 2): 358-36321 de abril de 2006.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
Vancouver
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 155( 2): 358-36321 de abril de 2006.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
Trabalho de evento-resumo periodico
Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering (2001)
Urbano, Alexandre ; Ferreira, F. F. ; Castro, S. C. de; Landers, R.; Fantini, Marcia ; Gorenstein, A.
Source: Electrochimica Acta. Conference titles: International Meeting on Electrochromism (IME-4). Unidade: IF
Subjects: FILMES FINOS, LÍTIO, NÍQUEL, ELETROQUÍMICA, ELETRÓLITOS
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ABNT
URBANO, Alexandre et al. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering. Electrochimica Acta. Amsterdam: Elsevier. Disponível em: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4. Acesso em: 29 set. 2024. , 2001
APA
Urbano, A., Ferreira, F. F., Castro, S. C. de, Landers, R., Fantini, M., & Gorenstein, A. (2001). Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering. Electrochimica Acta. Amsterdam: Elsevier. doi:10.1016/S0013-4686(01)00395-4
NLM
Urbano A, Ferreira FF, Castro SC de, Landers R, Fantini M, Gorenstein A. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering [Internet]. Electrochimica Acta. 2001 ; 46( 13-14): 2269-2273.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4
Vancouver
Urbano A, Ferreira FF, Castro SC de, Landers R, Fantini M, Gorenstein A. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering [Internet]. Electrochimica Acta. 2001 ; 46( 13-14): 2269-2273.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4
Artigo de periodico
Studies of LiCoOx thin film cathodes produced by r.f. sputtering (1999)
Fonseca, C. N. Polo da; Davalos, J.; Fantini, Marcia ; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FILMES FINOS, CRISTALOGRAFIA FÍSICA, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, ELETRÓLITOS, LÍTIO, MATERIAIS, ELETROQUÍMICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
FONSECA, C. N. Polo da et al. Studies of LiCoOx thin film cathodes produced by r.f. sputtering. Journal of Power Sources, v. 81, p. 575-580, 1999Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/S0378-7753(99)00107-X. Acesso em: 29 set. 2024.
APA
Fonseca, C. N. P. da, Davalos, J., Fantini, M., & Gorenstein, A. (1999). Studies of LiCoOx thin film cathodes produced by r.f. sputtering. Journal of Power Sources, 81, 575-580. doi:10.1016/S0378-7753(99)00107-X
NLM
Fonseca CNP da, Davalos J, Fantini M, Gorenstein A. Studies of LiCoOx thin film cathodes produced by r.f. sputtering [Internet]. Journal of Power Sources. 1999 ; 81 575-580.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0378-7753(99)00107-X
Vancouver
Fonseca CNP da, Davalos J, Fantini M, Gorenstein A. Studies of LiCoOx thin film cathodes produced by r.f. sputtering [Internet]. Journal of Power Sources. 1999 ; 81 575-580.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0378-7753(99)00107-X
Trabalho de evento-anais periodico
Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions (1996)
Ferreira, F. F. ; Tabacniks, Manfredo ; Fantini, Marcia ; Faria, I. C.; Gorenstein, A.
Source: Solid State Ionics. Conference titles: International Conference on Solid State Ionics. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, NÍQUEL, ELETROQUÍMICA, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
FERREIRA, F. F. et al. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions. Solid State Ionics. Amsterdam: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6. Acesso em: 29 set. 2024. , 1996
APA
Ferreira, F. F., Tabacniks, M., Fantini, M., Faria, I. C., & Gorenstein, A. (1996). Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions. Solid State Ionics. Amsterdam: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. doi:10.1016/0167-2738(96)00236-6
NLM
Ferreira FF, Tabacniks M, Fantini M, Faria IC, Gorenstein A. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions [Internet]. Solid State Ionics. 1996 ; 86-88 971-976.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6
Vancouver
Ferreira FF, Tabacniks M, Fantini M, Faria IC, Gorenstein A. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions [Internet]. Solid State Ionics. 1996 ; 86-88 971-976.[citado 2024 set. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6
Trabalho de evento
Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel (1996)
Faria, I. C.; Kleinke, M.; Gorenstein, A.; Fantini, Márcia ; Tabacniks, Manfredo ; Salvadori, M. C.
Conference titles: Simpósio Brasileiro de Eletroquímica e Eletroanalítica. Unidade: IF
Subjects: FILMES FINOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
FARIA, I. C. et al. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996, Anais.. São Carlos: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 1996. . Acesso em: 29 set. 2024.
APA
Faria, I. C., Kleinke, M., Gorenstein, A., Fantini, M., Tabacniks, M., & Salvadori, M. C. (1996). Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. In . São Carlos: Instituto de Física, Universidade de São Paulo.
NLM
Faria IC, Kleinke M, Gorenstein A, Fantini M, Tabacniks M, Salvadori MC. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996 ;[citado 2024 set. 29 ]
Vancouver
Faria IC, Kleinke M, Gorenstein A, Fantini M, Tabacniks M, Salvadori MC. Microestrutura, morfologia e estequiometria: comportamento eletrocrômico de filmes finos de óxido de níquel. 1996 ;[citado 2024 set. 29 ]
Trabalho de evento
Intercalação e eletrocromismo em filmes de óxido de vanádio (1996)
Lourenço, Airton; Origo, F. D.; Gorenstein, A.; Ferreira, Fabio Furlan; Fantini, Márcia ; Tabacniks, Manfredo
Conference titles: Simpósio Brasileiro de Eletroquímica e Eletroanalítica. Unidade: IF
Subjects: FÍSICO-QUÍMICA, FILMES FINOS, ELETROQUÍMICA, VANÁDIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
LOURENÇO, Airton et al. Intercalação e eletrocromismo em filmes de óxido de vanádio. 1996, Anais.. São Carlos: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 1996. . Acesso em: 29 set. 2024.
APA
Lourenço, A., Origo, F. D., Gorenstein, A., Ferreira, F. F., Fantini, M., & Tabacniks, M. (1996). Intercalação e eletrocromismo em filmes de óxido de vanádio. In . São Carlos: Instituto de Física, Universidade de São Paulo.
NLM
Lourenço A, Origo FD, Gorenstein A, Ferreira FF, Fantini M, Tabacniks M. Intercalação e eletrocromismo em filmes de óxido de vanádio. 1996 ;[citado 2024 set. 29 ]
Vancouver
Lourenço A, Origo FD, Gorenstein A, Ferreira FF, Fantini M, Tabacniks M. Intercalação e eletrocromismo em filmes de óxido de vanádio. 1996 ;[citado 2024 set. 29 ]

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