Source: Anais. Conference titles: Simpósio Brasileiro de Eletroquímica e Eletroanalítica. Unidade: IQ
Subjects: FILMES FINOS, CARBOIDRATOS
ABNT
VIDOTTI, Marcio et al. Comportamnento da ressonância de plasmon superfície (SPR) de filmes finos de hidróxido de níquel nos processos eletroquímicos na presença de carboidratos. 2009, Anais.. Fortaleza: Universidade Federal do Ceará, 2009. . Acesso em: 16 out. 2024.APA
Vidotti, M., Mendes, R. K., Cerri, C. D., Carvalhal, R. F., Torresi, S. I. C. de, & Kubota, L. T. (2009). Comportamnento da ressonância de plasmon superfície (SPR) de filmes finos de hidróxido de níquel nos processos eletroquímicos na presença de carboidratos. In Anais. Fortaleza: Universidade Federal do Ceará.NLM
Vidotti M, Mendes RK, Cerri CD, Carvalhal RF, Torresi SIC de, Kubota LT. Comportamnento da ressonância de plasmon superfície (SPR) de filmes finos de hidróxido de níquel nos processos eletroquímicos na presença de carboidratos. Anais. 2009 ;[citado 2024 out. 16 ]Vancouver
Vidotti M, Mendes RK, Cerri CD, Carvalhal RF, Torresi SIC de, Kubota LT. Comportamnento da ressonância de plasmon superfície (SPR) de filmes finos de hidróxido de níquel nos processos eletroquímicos na presença de carboidratos. Anais. 2009 ;[citado 2024 out. 16 ]