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  • Source: MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS. Unidade: IF

    Subjects: ÍONS, ESPECTROSCOPIA

    Versão PublicadaAcesso à fonteAcesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      BATTAGLIN, Felipe Augusto Darriba et al. Films deposited from reactive sputtering of aluminum acetylacetonate under low energy ion bombardment. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 20, n. 4, p. 926-936, 2017Tradução . . Disponível em: http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1516-14392017000400926&lng=en&tlng=em. Acesso em: 30 set. 2024.
    • APA

      Battaglin, F. A. D., Prado, E. S., Caseli, L., Rangel, E. C., Cruz, N. C. da, Silva, T. F. da, & Tabacniks, M. H. (2017). Films deposited from reactive sputtering of aluminum acetylacetonate under low energy ion bombardment. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, 20( 4), 926-936. doi:10.1590/1980-5373-MR-2016-0647
    • NLM

      Battaglin FAD, Prado ES, Caseli L, Rangel EC, Cruz NC da, Silva TF da, Tabacniks MH. Films deposited from reactive sputtering of aluminum acetylacetonate under low energy ion bombardment [Internet]. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS. 2017 ; 20( 4): 926-936.[citado 2024 set. 30 ] Available from: http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1516-14392017000400926&lng=en&tlng=em
    • Vancouver

      Battaglin FAD, Prado ES, Caseli L, Rangel EC, Cruz NC da, Silva TF da, Tabacniks MH. Films deposited from reactive sputtering of aluminum acetylacetonate under low energy ion bombardment [Internet]. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS. 2017 ; 20( 4): 926-936.[citado 2024 set. 30 ] Available from: http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1516-14392017000400926&lng=en&tlng=em
  • Source: Materials Research. Unidade: IF

    Subjects: FÍSICA NUCLEAR, MATERIAIS, FÍSICA DE PLASMAS, ALUMÍNIO

    Versão PublicadaAcesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      BATTAGLIN, Felipe Augusto Darriba et al. Innovative low temperature plasma approach for deposition of alumina films. Materials Research, v. 17, n. 6, p. 1410-1419, 2014Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/1516-1439.283514. Acesso em: 30 set. 2024.
    • APA

      Battaglin, F. A. D., Hosokawa, R. S., Cruz, N. C. da, Caseli, L., Rangel, E. C., Silva, T. F. da, & Tabacniks, M. (2014). Innovative low temperature plasma approach for deposition of alumina films. Materials Research, 17( 6), 1410-1419. doi:10.1590/1516-1439.283514
    • NLM

      Battaglin FAD, Hosokawa RS, Cruz NC da, Caseli L, Rangel EC, Silva TF da, Tabacniks M. Innovative low temperature plasma approach for deposition of alumina films [Internet]. Materials Research. 2014 ; 17( 6): 1410-1419.[citado 2024 set. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1590/1516-1439.283514
    • Vancouver

      Battaglin FAD, Hosokawa RS, Cruz NC da, Caseli L, Rangel EC, Silva TF da, Tabacniks M. Innovative low temperature plasma approach for deposition of alumina films [Internet]. Materials Research. 2014 ; 17( 6): 1410-1419.[citado 2024 set. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1590/1516-1439.283514

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