Lira, Daniella Cristina Barbosa de; Aguiar, Davi Teves de; Will, Isabela Bellot de Souza; Teixeira, Antonio Carlos S. C. 
; Guardani, Roberto ; Nascimento, Cláudio Augusto Oller do
Source: XVI COBEQ; III CBTERMO:engenharia química & inovação : anais Lorena : EEL-USP/UNICAMP/ABEQ, 2006. Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia Química. Unidade: EP
Subjects: FOTOQUÍMICA (TRATAMENTO), OXIDAÇÃO (PROCESSOS QUÍMICOS), REÚSO DA ÁGUA, TRATAMENTO DE ÁGUAS RESIDUÁRIAS
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ABNT
LIRA, Daniella Cristina Barbosa de et al. Estudo de tratamento fotoquímico (UV/H2N2) para reuso de águas de processos contendo contaminantes orgânicos. 2006, Anais.. Santos: COBEQ, 2006. . Acesso em: 25 jul. 2024.APA
Lira, D. C. B. de, Aguiar, D. T. de, Will, I. B. de S., Teixeira, A. C. S. C., Guardani, R., & Nascimento, C. A. O. do. (2006). Estudo de tratamento fotoquímico (UV/H2N2) para reuso de águas de processos contendo contaminantes orgânicos. In XVI COBEQ; III CBTERMO:engenharia química & inovação : anais Lorena : EEL-USP/UNICAMP/ABEQ, 2006. Santos: COBEQ.NLM
Lira DCB de, Aguiar DT de, Will IB de S, Teixeira ACSC, Guardani R, Nascimento CAO do. Estudo de tratamento fotoquímico (UV/H2N2) para reuso de águas de processos contendo contaminantes orgânicos. XVI COBEQ; III CBTERMO:engenharia química & inovação : anais Lorena : EEL-USP/UNICAMP/ABEQ, 2006. 2006 ;[citado 2024 jul. 25 ]Vancouver
Lira DCB de, Aguiar DT de, Will IB de S, Teixeira ACSC, Guardani R, Nascimento CAO do. Estudo de tratamento fotoquímico (UV/H2N2) para reuso de águas de processos contendo contaminantes orgânicos. XVI COBEQ; III CBTERMO:engenharia química & inovação : anais Lorena : EEL-USP/UNICAMP/ABEQ, 2006. 2006 ;[citado 2024 jul. 25 ]
