Behavior of the P interstitial in Si (2002)
Source: Program e Livro de Resumos. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais. Unidade: IF
Subjects: MATERIAIS, SEMICONDUTORES
ABNT
BAIERLE, Rogerio Jose e CALDAS, Marília Junqueira. Behavior of the P interstitial in Si. 2002, Anais.. Rio de Janeiro: SBPMat, 2002. . Acesso em: 20 ago. 2024.APA
Baierle, R. J., & Caldas, M. J. (2002). Behavior of the P interstitial in Si. In Program e Livro de Resumos. Rio de Janeiro: SBPMat.NLM
Baierle RJ, Caldas MJ. Behavior of the P interstitial in Si. Program e Livro de Resumos. 2002 ;[citado 2024 ago. 20 ]Vancouver
Baierle RJ, Caldas MJ. Behavior of the P interstitial in Si. Program e Livro de Resumos. 2002 ;[citado 2024 ago. 20 ]