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Artigo de periodico
TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides (2010)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Albertin, Katia Franklin ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de e ALBERTIN, Katia Franklin e ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c), v. 7, n. 3-4, p. 960-963, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Carvalho, D. O. de, Albertin, K. F., & Alayo Chávez, M. I. (2010). TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 960-963. doi:10.1002/pssc.200982878
NLM
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 960-963.[citado 2024 abr. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878
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Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 960-963.[citado 2024 abr. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878
Dissertação (Mestrado)
Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica (2008)
Schianti, Juliana de Novais; Paez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE FABRICAÇÃO
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ABNT
SCHIANTI, Juliana de Novais. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Schianti, J. de N. (2008). Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
NLM
Schianti J de N. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
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Schianti J de N. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
Dissertação (Mestrado)
Sistemas auto-organizados para aplicação em cristais fotônicos (2005)
Raimundo, Daniel Scodeler; Salcedo, Walter Jaimes (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), ÓPTICA ELETRÔNICA, SEMICONDUTORES (FÍSICO-QUÍMICA), ELETROQUÍMICA
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ABNT
RAIMUNDO, Daniel Scodeler. Sistemas auto-organizados para aplicação em cristais fotônicos. 2005. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2005. . Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Raimundo, D. S. (2005). Sistemas auto-organizados para aplicação em cristais fotônicos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Raimundo DS. Sistemas auto-organizados para aplicação em cristais fotônicos. 2005 ;[citado 2024 abr. 18 ]
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Raimundo DS. Sistemas auto-organizados para aplicação em cristais fotônicos. 2005 ;[citado 2024 abr. 18 ]
Trabalho de evento-resumo
Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS (2005)
Oliveira Junior, Jose Pinto de; Paez Carreño, Marcelo Nelson
Source: SIICUSP 2005 : resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
OLIVEIRA JUNIOR, Jose Pinto de e PAEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS. 2005, Anais.. São Paulo: Universidade de São Paulo, 2005. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/13osiicusp/aprovados/index01.htm. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Oliveira Junior, J. P. de, & Paez Carreño, M. N. (2005). Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS. In SIICUSP 2005 : resumos. São Paulo: Universidade de São Paulo. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/13osiicusp/aprovados/index01.htm
NLM
Oliveira Junior JP de, Paez Carreño MN. Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS [Internet]. SIICUSP 2005 : resumos. 2005 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/13osiicusp/aprovados/index01.htm
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Oliveira Junior JP de, Paez Carreño MN. Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS [Internet]. SIICUSP 2005 : resumos. 2005 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/13osiicusp/aprovados/index01.htm
Dissertação (Mestrado)
Sensores eletroquímicos para detecção de íons e medida de pH baseados em filmes de silício poroso (2007)
Cechelero, Gustavo Sampaio e Silva; Salcedo, Walter Jaimes (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, ELETROQUÍMICA, SILÍCIO
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ABNT
CECHELERO, Gustavo Sampaio e Silva. Sensores eletroquímicos para detecção de íons e medida de pH baseados em filmes de silício poroso. 2007. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2007. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-04072007-152612/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Cechelero, G. S. e S. (2007). Sensores eletroquímicos para detecção de íons e medida de pH baseados em filmes de silício poroso (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-04072007-152612/
NLM
Cechelero GS e S. Sensores eletroquímicos para detecção de íons e medida de pH baseados em filmes de silício poroso [Internet]. 2007 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-04072007-152612/
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Cechelero GS e S. Sensores eletroquímicos para detecção de íons e medida de pH baseados em filmes de silício poroso [Internet]. 2007 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-04072007-152612/
Tese (Doutorado)
Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS (2008)
Rehder, Gustavo Pamplona ; Paez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PLASMA (MICROELETRÔNICA), DISPOSITIVOS ÓPTICOS
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ABNT
REHDER, Gustavo Pamplona. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS. 2008. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Rehder, G. P. (2008). Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
NLM
Rehder GP. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
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Rehder GP. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
Tese (Doutorado)
Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal (2017)
Armas Alvarado, Maria Elisia; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: DISPOSITIVOS ÓPTICOS, MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ARMAS ALVARADO, Maria Elisia. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal. 2017. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2017. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Armas Alvarado, M. E. (2017). Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
NLM
Armas Alvarado ME. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal [Internet]. 2017 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
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Armas Alvarado ME. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal [Internet]. 2017 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
Dissertação (Mestrado)
Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados (2014)
Camilo, Mauricio Eiji; Kassab, Luciana Reyes Pires (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: DISPOSITIVOS ÓPTICOS, MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CAMILO, Mauricio Eiji. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados. 2014. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2014. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Camilo, M. E. (2014). Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/
NLM
Camilo ME. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados [Internet]. 2014 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/
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Camilo ME. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados [Internet]. 2014 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/
Artigo de periodico
Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer (2010)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Albertin, Katia Franklin ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de e ALBERTIN, Katia Franklin e ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c), v. 7, n. 3-4, p. 719-719, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Carvalho, D. O. de, Albertin, K. F., & Alayo Chávez, M. I. (2010). Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 719-719. doi:10.1002/pssc.200982795
NLM
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 719-719.[citado 2024 abr. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795
Vancouver
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 719-719.[citado 2024 abr. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795
Tese (Doutorado)
Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos (2010)
Roque Huanca, Danilo; Salcedo, Walter Jaimes (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, MATERIAIS, ELETROQUÍMICA, CORROSÃO, SEMICONDUTORES (FÍSICO-QUÍMICA), NANOTECNOLOGIA, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, NANOPARTÍCULAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ROQUE HUANCA, Danilo. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos. 2010. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2010. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Roque Huanca, D. (2010). Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/
NLM
Roque Huanca D. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos [Internet]. 2010 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/
Vancouver
Roque Huanca D. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos [Internet]. 2010 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/
Artigo de periodico
Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures (2010)
Gollub, Alexandre Henrique; Carvalho, Daniel Orquiza de ; Paiva, Thiago Costa de ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi C. Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GOLLUB, Alexandre Henrique et al. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, v. 7, n. 3/4, p. 964-967, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Gollub, A. H., Carvalho, D. O. de, Paiva, T. C. de, & Alayo Chávez, M. I. (2010). Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, 7( 3/4), 964-967. doi:10.1002/pssc.200982889
NLM
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2024 abr. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889
Vancouver
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2024 abr. 18 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889
Dissertação (Mestrado)
Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering (2009)
Damiani, Larissa Rodrigues; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DAMIANI, Larissa Rodrigues. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering. 2009. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2009. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Damiani, L. R. (2009). Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
NLM
Damiani LR. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
Vancouver
Damiani LR. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
Tese (Doutorado)
Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio (2015)
Damiani, Larissa Rodrigues; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DAMIANI, Larissa Rodrigues. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio. 2015. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Damiani, L. R. (2015). Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
NLM
Damiani LR. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio [Internet]. 2015 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
Vancouver
Damiani LR. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio [Internet]. 2015 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
Dissertação (Mestrado)
Fabricação e caracterização de MEMS de carbeto de silício (a-SiC:H) obtido por PECVD (2005)
Rehder, Gustavo Pamplona ; Paez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
REHDER, Gustavo Pamplona. Fabricação e caracterização de MEMS de carbeto de silício (a-SiC:H) obtido por PECVD. 2005. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2005. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-18052022-142156/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Rehder, G. P. (2005). Fabricação e caracterização de MEMS de carbeto de silício (a-SiC:H) obtido por PECVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-18052022-142156/
NLM
Rehder GP. Fabricação e caracterização de MEMS de carbeto de silício (a-SiC:H) obtido por PECVD [Internet]. 2005 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-18052022-142156/
Vancouver
Rehder GP. Fabricação e caracterização de MEMS de carbeto de silício (a-SiC:H) obtido por PECVD [Internet]. 2005 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-18052022-142156/
Dissertação (Mestrado)
Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos (2008)
Silva, Felipe José Ferreira Sabino da; Furlan, Humber (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Felipe José Ferreira Sabino da. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Silva, F. J. F. S. da. (2008). Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
NLM
Silva FJFS da. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
Vancouver
Silva FJFS da. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
Tese (Doutorado)
Estudo e desenvolvimento de uma tecnologia CMOS-TFT à baixa temperatura (< 600°C) (2002)
Viana, Carlos Eduardo; Morimoto, Nilton Itiro (Orientador) ; Bonnaud, Olivier (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS, TRANSISTORES, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VIANA, Carlos Eduardo. Estudo e desenvolvimento de uma tecnologia CMOS-TFT à baixa temperatura (< 600°C). 2002. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002. . Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Viana, C. E. (2002). Estudo e desenvolvimento de uma tecnologia CMOS-TFT à baixa temperatura (< 600°C) (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Viana CE. Estudo e desenvolvimento de uma tecnologia CMOS-TFT à baixa temperatura (< 600°C). 2002 ;[citado 2024 abr. 18 ]
Vancouver
Viana CE. Estudo e desenvolvimento de uma tecnologia CMOS-TFT à baixa temperatura (< 600°C). 2002 ;[citado 2024 abr. 18 ]
Dissertação (Mestrado)
Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada (2008)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ÓPTICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Carvalho, D. O. de. (2008). Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
NLM
Carvalho DO de. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
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Carvalho DO de. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
Dissertação (Mestrado)
Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos (2008)
Morales Alvarado, Ary Adilson; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS, DISPOSITIVOS ÓPTICOS
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ABNT
MORALES ALVARADO, Ary Adilson. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Morales Alvarado, A. A. (2008). Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
NLM
Morales Alvarado AA. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
Vancouver
Morales Alvarado AA. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
Dissertação (Mestrado)
Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS (2010)
Pelegrini, Marcus Vinícius ; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, ATUADORES PIEZELÉTRICOS
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ABNT
PELEGRINI, Marcus Vinícius. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS. 2010. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2010. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Pelegrini, M. V. (2010). Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/
NLM
Pelegrini MV. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS [Internet]. 2010 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/
Vancouver
Pelegrini MV. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS [Internet]. 2010 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/
Dissertação (Mestrado)
Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder (2008)
Mina, Alexandre Martin; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ÓPTICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MINA, Alexandre Martin. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder. 2008. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/. Acesso em: 18 abr. 2024.
APA
Mina, A. M. (2008). Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/
NLM
Mina AM. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/
Vancouver
Mina AM. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder [Internet]. 2008 ;[citado 2024 abr. 18 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/

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