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Tese
Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal (2017)
Armas Alvarado, Maria Elisia; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: DISPOSITIVOS ÓPTICOS, MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
ARMAS ALVARADO, Maria Elisia; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal. 2017.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2017. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/pt-br.php >.
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Armas Alvarado, M. E., & Alayo Chávez, M. I. (2017). Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/pt-br.php
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Armas Alvarado ME, Alayo Chávez MI. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal [Internet]. 2017 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/pt-br.php
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Armas Alvarado ME, Alayo Chávez MI. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal [Internet]. 2017 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/pt-br.php
Tese
Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio (2015)
Damiani, Larissa Rodrigues; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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DAMIANI, Larissa Rodrigues; MANSANO, Ronaldo Domingues. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio. 2015.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/pt-br.php >.
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Damiani, L. R., & Mansano, R. D. (2015). Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/pt-br.php
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Damiani LR, Mansano RD. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio [Internet]. 2015 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/pt-br.php
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Damiani LR, Mansano RD. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio [Internet]. 2015 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/pt-br.php
Tese
Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados (2014)
Camilo, Mauricio Eiji; Kassab, Luciana Reyes Pires (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: DISPOSITIVOS ÓPTICOS, MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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CAMILO, Mauricio Eiji; KASSAB, Luciana Reyes Pires. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados. 2014.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2014. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/pt-br.php >.
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Camilo, M. E., & Kassab, L. R. P. (2014). Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/pt-br.php
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Camilo ME, Kassab LRP. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados [Internet]. 2014 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/pt-br.php
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Camilo ME, Kassab LRP. Produção de Interferômetros Mach-Zehnder utilizando guias de onda do tipo pedestal e filmes finos de Bi₂O₃-WO₃-TeO₂ para aplicações em sensores ópticos integrados [Internet]. 2014 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-30122014-113909/pt-br.php
Tese
Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo (2011)
Espinosa, Daniel Humberto Garcia; Onmori, Roberto Koji (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, ÓPTICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ESPINOSA, Daniel Humberto Garcia; ONMORI, Roberto Koji. Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo. 2011.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2011. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25082011-162113/pt-br.php >.
APA
Espinosa, D. H. G., & Onmori, R. K. (2011). Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25082011-162113/pt-br.php
NLM
Espinosa DHG, Onmori RK. Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo [Internet]. 2011 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25082011-162113/pt-br.php
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Espinosa DHG, Onmori RK. Efeito de lente térmica e não-linearidades ópticas do silício amorfo hidrogenado dopado com fósforo [Internet]. 2011 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25082011-162113/pt-br.php
Tese
Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares (2011)
Colombo, Fábio Belotti; Páez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SOFTWARES (SIMULAÇÃO), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, AUTÔMATOS CELULARES, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS
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COLOMBO, Fábio Belotti; PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares. 2011.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2011. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082011-125646/pt-br.php >.
APA
Colombo, F. B., & Páez Carreño, M. N. (2011). Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082011-125646/pt-br.php
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Colombo FB, Páez Carreño MN. Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares [Internet]. 2011 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082011-125646/pt-br.php
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Colombo FB, Páez Carreño MN. Desenvolvimento de um software para simulação atomística de processos de microfabricação baseado em autômatos celulares [Internet]. 2011 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082011-125646/pt-br.php
Tese
Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS (2010)
Pelegrini, Marcus Vinícius ; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, ATUADORES PIEZELÉTRICOS
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ABNT
PELEGRINI, Marcus Vinícius; PEREYRA, Inés. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS. 2010.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2010. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/?&lang=pt-br >.
APA
Pelegrini, M. V., & Pereyra, I. (2010). Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/?&lang=pt-br
NLM
Pelegrini MV, Pereyra I. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS [Internet]. 2010 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/?&lang=pt-br
Vancouver
Pelegrini MV, Pereyra I. Estudo de materiais piezoelétricos da família III-V obtidos por sputtering reativo visando sua aplicação em sensores e MEMS [Internet]. 2010 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-102150/?&lang=pt-br
Artigo de periodico
Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures (2010)
Gollub, Alexandre Henrique; Carvalho, Daniel Orquiza de ; Paiva, Thiago C; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
GOLLUB, Alexandre Henrique; CARVALHO, Daniel Orquiza de; PAIVA, Thiago C; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi (c), Warsaw, Wiley-VCH, v. 7, n. 3-4, p. 964-967, 2010. DOI: 10.1002/pssc.200982889.
APA
Gollub, A. H., Carvalho, D. O. de, Paiva, T. C., & Alayo Chávez, M. I. (2010). Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 964-967. doi:10.1002/pssc.200982889
NLM
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 964-967.
Vancouver
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 964-967.
Artigo de periodico
TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides (2010)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Albertin, Katia Franklin ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de; ALBERTIN, Katia Franklin; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c), Warsaw, Wiley-VCH, v. 7, n. 3-4, p. 960-963, 2010. DOI: 10.1002/pssc.200982878.
APA
Carvalho, D. O. de, Albertin, K. F., & Alayo Chávez, M. I. (2010). TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 960-963. doi:10.1002/pssc.200982878
NLM
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 960-963.
Vancouver
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 960-963.
Tese
Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos (2010)
Roque Huanca, Danilo; Salcedo, Walter Jaimes (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, MATERIAIS, ELETROQUÍMICA, CORROSÃO, SEMICONDUTORES (FÍSICO-QUÍMICA), NANOTECNOLOGIA, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, NANOPARTÍCULAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ROQUE HUANCA, Danilo; SALCEDO, Walter Jaimes. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos. 2010.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2010. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/?&lang=pt-br >.
APA
Roque Huanca, D., & Salcedo, W. J. (2010). Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/?&lang=pt-br
NLM
Roque Huanca D, Salcedo WJ. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos [Internet]. 2010 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/?&lang=pt-br
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Roque Huanca D, Salcedo WJ. Microtubos e nanotubos de silício fabricados por processos químicos e eletroquímicos [Internet]. 2010 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-20082010-154954/?&lang=pt-br
Artigo de periodico
A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications (2010)
Oliveira, Alessandro Ricardo de; Pereyra, Inés ; Páez Carreño, Marcelo Nelson
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS
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ABNT
OLIVEIRA, Alessandro Ricardo de; PEREYRA, Inés; PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications. Physica Status Solidi (c), Warsaw, Wiley-VCH, v. 7, n. 3-4, p. 793-796, 2010. DOI: 10.1002/pssc.200982839.
APA
Oliveira, A. R. de, Pereyra, I., & Páez Carreño, M. N. (2010). A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 793-796. doi:10.1002/pssc.200982839
NLM
Oliveira AR de, Pereyra I, Páez Carreño MN. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 793-796.
Vancouver
Oliveira AR de, Pereyra I, Páez Carreño MN. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 793-796.
Artigo de periodico
Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer (2010)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Albertin, Katia Franklin ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de; ALBERTIN, Katia Franklin; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c), Warsaw, Wiley-VCH, v. 7, n. 3-4, p. 719-719, 2010. DOI: 10.1002/pssc.200982795.
APA
Carvalho, D. O. de, Albertin, K. F., & Alayo Chávez, M. I. (2010). Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 719-719. doi:10.1002/pssc.200982795
NLM
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 719-719.
Vancouver
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 719-719.
Tese
Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering (2009)
Damiani, Larissa Rodrigues; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DAMIANI, Larissa Rodrigues; MANSANO, Ronaldo Domingues. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering. 2009.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2009. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/?&lang=pt-br >.
APA
Damiani, L. R., & Mansano, R. D. (2009). Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/?&lang=pt-br
NLM
Damiani LR, Mansano RD. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/?&lang=pt-br
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Damiani LR, Mansano RD. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/?&lang=pt-br
Tese
Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos (2008)
Silva, Felipe José Ferreira Sabino da; Furlan, Humber (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Felipe José Ferreira Sabino da; FURLAN, Humber. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos. 2008.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/ >.
APA
Silva, F. J. F. S. da, & Furlan, H. (2008). Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
NLM
Silva FJFS da, Furlan H. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
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Silva FJFS da, Furlan H. Estudos da corrosão anisotrópica do silício frente soluções de KOH e sais metálicos [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13052009-090110/
Tese
Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada (2008)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ÓPTICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada. 2008.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/ >.
APA
Carvalho, D. O. de, & Alayo Chávez, M. I. (2008). Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
NLM
Carvalho DO de, Alayo Chávez MI. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
Vancouver
Carvalho DO de, Alayo Chávez MI. Estudo e desenvolvimento de guias de onda ARROW, com camadas anti-ressonantes de a-SiC:H e TiOx, para aplicação em dispositivos de óptica integrada [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-142151/
Tese
Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica (2008)
Schianti, Juliana de Novais; Paez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, PROCESSOS DE FABRICAÇÃO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SCHIANTI, Juliana de Novais; PAEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica. 2008.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/ >.
APA
Schianti, J. de N., & Paez Carreño, M. N. (2008). Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
NLM
Schianti J de N, Paez Carreño MN. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
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Schianti J de N, Paez Carreño MN. Sistemas de microcanais em vidro para aplicações em microfluidica [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-19082008-083259/
Tese
Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos (2008)
Morales Alvarado, Ary Adilson; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS, DISPOSITIVOS ÓPTICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MORALES ALVARADO, Ary Adilson; PEREYRA, Inés. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos. 2008.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/ >.
APA
Morales Alvarado, A. A., & Pereyra, I. (2008). Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
NLM
Morales Alvarado AA, Pereyra I. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
Vancouver
Morales Alvarado AA, Pereyra I. Estudo e caracterização de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos por PECVD visando sua aplicação em MEMS e dispositivos ópticos [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11052009-170655/
Tese
Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS (2008)
Rehder, Gustavo Pamplona ; Paez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PLASMA (MICROELETRÔNICA), DISPOSITIVOS ÓPTICOS
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ABNT
REHDER, Gustavo Pamplona; PAEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS. 2008.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/ >.
APA
Rehder, G. P., & Paez Carreño, M. N. (2008). Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
NLM
Rehder GP, Paez Carreño MN. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
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Rehder GP, Paez Carreño MN. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
Tese
Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder (2008)
Mina, Alexandre Martin; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ÓPTICA, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
MINA, Alexandre Martin; ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder. 2008.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/ >.
APA
Mina, A. M., & Alayo Chávez, M. I. (2008). Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/
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Mina AM, Alayo Chávez MI. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/
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Mina AM, Alayo Chávez MI. Estudo das etapas de fabricação de dispositivos eletro-termo-ópticos utilizando o interferômetro Mach-Zehnder [Internet]. 2008 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24092008-140132/
Tese
Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura (2007)
Rocha, Otávio Filipe da; Viana, Carlos Eduardo (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PLASMA (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
ROCHA, Otávio Filipe da; VIANA, Carlos Eduardo. Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura. 2007.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2007. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-142809/ >.
APA
Rocha, O. F. da, & Viana, C. E. (2007). Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-142809/
NLM
Rocha OF da, Viana CE. Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura [Internet]. 2007 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-142809/
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Rocha OF da, Viana CE. Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura [Internet]. 2007 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-142809/
Tese
Contribuição ao desenvolvimento de dispositivos sensores de gás baseados em moléculas organo-metálicas de ftalocianina (2007)
Stelet, Adriana Barboza; Salcedo, Walter Jaimes (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), SENSOR, SEMICONDUTORES (FÍSICO-QUÍMICA), ELETROQUÍMICA
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ABNT
STELET, Adriana Barboza; SALCEDO, Walter Jaimes. Contribuição ao desenvolvimento de dispositivos sensores de gás baseados em moléculas organo-metálicas de ftalocianina. 2007.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2007. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-07012008-150638/ >.
APA
Stelet, A. B., & Salcedo, W. J. (2007). Contribuição ao desenvolvimento de dispositivos sensores de gás baseados em moléculas organo-metálicas de ftalocianina. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-07012008-150638/
NLM
Stelet AB, Salcedo WJ. Contribuição ao desenvolvimento de dispositivos sensores de gás baseados em moléculas organo-metálicas de ftalocianina [Internet]. 2007 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-07012008-150638/
Vancouver
Stelet AB, Salcedo WJ. Contribuição ao desenvolvimento de dispositivos sensores de gás baseados em moléculas organo-metálicas de ftalocianina [Internet]. 2007 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-07012008-150638/

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