Silva, Letícia Veloso Ribeiro da; Ferrão, Ewerton Shimara Pires 
; Nascimento, Cláudio Augusto Oller do ; Teixeira, Antonio Carlos S. C.
Source: VII COBEQ-IC : anais.. Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia Química em Iniciação Científica. Unidade: EP
Subjects: COMPOSTOS ORGÂNICOS, EFLUENTES (TRATAMENTO), FOTOQUÍMICA, OXIDAÇÃO (PROCESSOS), REATORES QUÍMICOS, POLUIÇÃO DA ÁGUA (TRATAMENTO)
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ABNT
SILVA, Letícia Veloso Ribeiro da et al. Avaliação de processos oxidativos avançados fotoquímicos para degradação de compostos fenólicos em solução aquosa. 2007, Anais.. São Carlos: DEQ-UFSCar, 2007. . Acesso em: 30 set. 2024.APA
Silva, L. V. R. da, Ferrão, E. S. P., Nascimento, C. A. O. do, & Teixeira, A. C. S. C. (2007). Avaliação de processos oxidativos avançados fotoquímicos para degradação de compostos fenólicos em solução aquosa. In VII COBEQ-IC : anais.. São Carlos: DEQ-UFSCar.NLM
Silva LVR da, Ferrão ESP, Nascimento CAO do, Teixeira ACSC. Avaliação de processos oxidativos avançados fotoquímicos para degradação de compostos fenólicos em solução aquosa. VII COBEQ-IC : anais. 2007 ;[citado 2024 set. 30 ]Vancouver
Silva LVR da, Ferrão ESP, Nascimento CAO do, Teixeira ACSC. Avaliação de processos oxidativos avançados fotoquímicos para degradação de compostos fenólicos em solução aquosa. VII COBEQ-IC : anais. 2007 ;[citado 2024 set. 30 ]
