Imitation risk and market attraction on patent applications (2020)
Bution, Jefferson Luiz; Paza, Andrei Carlos Torresani; Testi, Lucas Israel Oliveira; Teberga, Pedro Marins Freire; Oliva, Fábio Lotti 
; Grisi, Celso Cláudio de Hildebrand e
Source: Anais. Conference titles: Encontro da Associação Nacional de Pós-Graduação e Pesquisa em Administração - ENANPAD. Unidade: FEA
Subjects: PATENTE, RISCO, IMITAÇÃO, INOVAÇÃO, PROPRIEDADE INTELECTUAL
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BUTION, Jefferson Luiz et al. Imitation risk and market attraction on patent applications. 2020, Anais.. Rio de Janeiro: ANPAD, 2020. Disponível em: http://www.anpad.org.br/abrir_pdf.php?e=MjgxNTI=. Acesso em: 03 nov. 2024.APA
Bution, J. L., Paza, A. C. T., Testi, L. I. O., Teberga, P. M. F., Oliva, F. L., & Grisi, C. C. de H. e. (2020). Imitation risk and market attraction on patent applications. In Anais. Rio de Janeiro: ANPAD. Recuperado de http://www.anpad.org.br/abrir_pdf.php?e=MjgxNTI=NLM
Bution JL, Paza ACT, Testi LIO, Teberga PMF, Oliva FL, Grisi CC de H e. Imitation risk and market attraction on patent applications [Internet]. Anais. 2020 ;[citado 2024 nov. 03 ] Available from: http://www.anpad.org.br/abrir_pdf.php?e=MjgxNTI=Vancouver
Bution JL, Paza ACT, Testi LIO, Teberga PMF, Oliva FL, Grisi CC de H e. Imitation risk and market attraction on patent applications [Internet]. Anais. 2020 ;[citado 2024 nov. 03 ] Available from: http://www.anpad.org.br/abrir_pdf.php?e=MjgxNTI=
