ReP USP - Resultado da busca

Filtros : "CIRCUITOS INTEGRADOS" "Espanha" Removidos: "ANDRADE, JOSÉ HENRIQUE PEREIRA" "BODINAUD, JEAN ALBERT" Limpar

Filtros

Autores USP
- assagra, yuri andrey olivato (1)
- carmo, joão paulo pereira do (1)
- celino, daniel ricardo (1)
- granado, talita conte (1)
- maciel, homero santiago (1)

Trabalho de evento
A RF modulator/demodulator for samll signal range wireless devices (2016)
Celino, Daniel Ricardo; Assagra, Yuri Andrey Olivato; Granado, Talita Conte; Correia, J. H.; Carmo, João Paulo Pereira do
Fonte: Proceedings. Nome do evento: Seminário Anual de Automática, Electrónica Industrial e Instrumentación. Unidade: EESC
Assuntos: CIRCUITOS INTEGRADOS, ENGENHARIA ELÉTRICA, CONVERSORES ELÉTRICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CELINO, Daniel Ricardo et al. A RF modulator/demodulator for samll signal range wireless devices. 2016, Anais.. Elche, Spain: Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo, 2016. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/2c0390bd-65e0-4b95-8ce2-930a257ec1c9/DANIEL_SAAEI_2016.pdf. Acesso em: 05 set. 2024.
APA
Celino, D. R., Assagra, Y. A. O., Granado, T. C., Correia, J. H., & Carmo, J. P. P. do. (2016). A RF modulator/demodulator for samll signal range wireless devices. In Proceedings. Elche, Spain: Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/2c0390bd-65e0-4b95-8ce2-930a257ec1c9/DANIEL_SAAEI_2016.pdf
NLM
Celino DR, Assagra YAO, Granado TC, Correia JH, Carmo JPP do. A RF modulator/demodulator for samll signal range wireless devices [Internet]. Proceedings. 2016 ;[citado 2024 set. 05 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/2c0390bd-65e0-4b95-8ce2-930a257ec1c9/DANIEL_SAAEI_2016.pdf
Vancouver
Celino DR, Assagra YAO, Granado TC, Correia JH, Carmo JPP do. A RF modulator/demodulator for samll signal range wireless devices [Internet]. Proceedings. 2016 ;[citado 2024 set. 05 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/2c0390bd-65e0-4b95-8ce2-930a257ec1c9/DANIEL_SAAEI_2016.pdf
Trabalho de evento-resumo
Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas (1996)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, H. S.
Fonte: Abstracts Book. Nome do evento: International Conference on Thin Films. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. 1996, Anais.. Madrid: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 1996. . Acesso em: 05 set. 2024.
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1996). Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. In Abstracts Book. Madrid: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. Abstracts Book. 1996 ;[citado 2024 set. 05 ]
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. Abstracts Book. 1996 ;[citado 2024 set. 05 ]

Biblioteca Digital de Produção Intelectual da Universidade de São Paulo 2012 - 2024