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  • Unidade: IF

    Assunto: ÓPTICA ELETRÔNICA

    Acesso à fonteHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      EL, G A et al. The theory of optical dispersive shock waves in photorefractive media. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: http://br.arxiv.org/PS_cache/arxiv/pdf/0706/0706.1112v1.pdf. Acesso em: 21 jul. 2024. , 2007
    • APA

      El, G. A., Gammal, A., Khamis, E. G., Kraenkel, R. A., & Kamchatnov, A. M. (2007). The theory of optical dispersive shock waves in photorefractive media. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de http://br.arxiv.org/PS_cache/arxiv/pdf/0706/0706.1112v1.pdf
    • NLM

      El GA, Gammal A, Khamis EG, Kraenkel RA, Kamchatnov AM. The theory of optical dispersive shock waves in photorefractive media [Internet]. 2007 ;[citado 2024 jul. 21 ] Available from: http://br.arxiv.org/PS_cache/arxiv/pdf/0706/0706.1112v1.pdf
    • Vancouver

      El GA, Gammal A, Khamis EG, Kraenkel RA, Kamchatnov AM. The theory of optical dispersive shock waves in photorefractive media [Internet]. 2007 ;[citado 2024 jul. 21 ] Available from: http://br.arxiv.org/PS_cache/arxiv/pdf/0706/0706.1112v1.pdf
  • Unidade: EP

    Assunto: ÓPTICA ELETRÔNICA

    How to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      MORAES JUNIOR, Hamilton Fernandes de e SEABRA, Antonio Carlos. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 21 jul. 2024. , 2002
    • APA

      Moraes Junior, H. F. de, & Seabra, A. C. (2002). Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. São Paulo: EPUSP.
    • NLM

      Moraes Junior HF de, Seabra AC. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. 2002 ;[citado 2024 jul. 21 ]
    • Vancouver

      Moraes Junior HF de, Seabra AC. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. 2002 ;[citado 2024 jul. 21 ]

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