Assunto: ÓPTICA ELETRÔNICA
ABNT
MORAES JUNIOR, Hamilton Fernandes de e SEABRA, Antonio Carlos. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 21 jul. 2024. , 2002APA
Moraes Junior, H. F. de, & Seabra, A. C. (2002). Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. São Paulo: EPUSP.NLM
Moraes Junior HF de, Seabra AC. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. 2002 ;[citado 2024 jul. 21 ]Vancouver
Moraes Junior HF de, Seabra AC. Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microóptica integrada. 2002 ;[citado 2024 jul. 21 ]