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  • Tese (Doutorado)

    Estudo de camadas dielétricas para aplicação em capacitores MOS (2007)

    Albertin, Katia Franklin ; Pereyra, Inés (Orientador)

    Unidade: EP

    Subjects: DIELÉTRICOS (PROPRIEDADES), DISPOSITIVOS SUPERCONDUTORES, CAPACITORES, ESTRUTURA DOS MATERIAIS, SILÍCIO

    Acesso à fonteHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      ALBERTIN, Katia Franklin. Estudo de camadas dielétricas para aplicação em capacitores MOS. 2007. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2007. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-144158/. Acesso em: 13 set. 2024.

    • APA

      Albertin, K. F. (2007). Estudo de camadas dielétricas para aplicação em capacitores MOS (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-144158/

    • NLM

      Albertin KF. Estudo de camadas dielétricas para aplicação em capacitores MOS [Internet]. 2007 ;[citado 2024 set. 13 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-144158/

    • Vancouver

      Albertin KF. Estudo de camadas dielétricas para aplicação em capacitores MOS [Internet]. 2007 ;[citado 2024 set. 13 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012008-144158/

  • Tese (Doutorado)

    Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD (2007)

    Souza, Denise Criado Pereira de ; Pereyra, Inés (Orientador)

    Unidade: EP

    Subjects: ESTRUTURA DOS MATERIAIS, DIELÉTRICOS (PROPRIEDADES), ÓPTICA ELETRÔNICA, DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS, SEMICONDUTORES, SILÍCIO

    Acesso à fonteHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      SOUZA, Denise Criado Pereira de. Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD. 2007. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2007. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012008-145807/. Acesso em: 13 set. 2024.

    • APA

      Souza, D. C. P. de. (2007). Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012008-145807/

    • NLM

      Souza DCP de. Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD [Internet]. 2007 ;[citado 2024 set. 13 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012008-145807/

    • Vancouver

      Souza DCP de. Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD [Internet]. 2007 ;[citado 2024 set. 13 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012008-145807/
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