Método de selagem de dispositivo compreendendo um substrato (2013)
Unidade: IQSubjects: FILMES FINOS, TERMOPLÁSTICOS
ABNT
IHA, Neyde Yukie Murakami e MIZOGUCHI, Sergio Kenji. Método de selagem de dispositivo compreendendo um substrato. . Rio de Janeiro: República Federativa do Brasil - Ministério do Desenvolvimento, Indústria e do Comércio Exterior - Instituto Nacional de Propriedade Industrial. . Acesso em: 23 ago. 2024. , 2013APA
Iha, N. Y. M., & Mizoguchi, S. K. (2013). Método de selagem de dispositivo compreendendo um substrato. Rio de Janeiro: República Federativa do Brasil - Ministério do Desenvolvimento, Indústria e do Comércio Exterior - Instituto Nacional de Propriedade Industrial.NLM
Iha NYM, Mizoguchi SK. Método de selagem de dispositivo compreendendo um substrato. 2013 ;[citado 2024 ago. 23 ]Vancouver
Iha NYM, Mizoguchi SK. Método de selagem de dispositivo compreendendo um substrato. 2013 ;[citado 2024 ago. 23 ]