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Tese (Doutorado)
Desenvolvimento de vidros pertencentes ao sistema SiO2-Na2O-CaO-B2O3-AI2O3 com adição de Nb2O5 para a imobilização de rejeitos radioativos (2020)
Silva, Danilo Lopes Costa e; Castanho, Sonia Regina Homem de Mello (Orientador)
Unidade: IPEN
Subjects: VIDRO, SILÍCIO, SOLIDIFICAÇÃO, IMOBILIZAÇÃO, RESÍDUOS RADIOATIVOS, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS
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ABNT
SILVA, Danilo Lopes Costa e. Desenvolvimento de vidros pertencentes ao sistema SiO2-Na2O-CaO-B2O3-AI2O3 com adição de Nb2O5 para a imobilização de rejeitos radioativos. 2020. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2020. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-06112020-160040/. Acesso em: 11 jul. 2024.
APA
Silva, D. L. C. e. (2020). Desenvolvimento de vidros pertencentes ao sistema SiO2-Na2O-CaO-B2O3-AI2O3 com adição de Nb2O5 para a imobilização de rejeitos radioativos (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-06112020-160040/
NLM
Silva DLC e. Desenvolvimento de vidros pertencentes ao sistema SiO2-Na2O-CaO-B2O3-AI2O3 com adição de Nb2O5 para a imobilização de rejeitos radioativos [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jul. 11 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-06112020-160040/
Vancouver
Silva DLC e. Desenvolvimento de vidros pertencentes ao sistema SiO2-Na2O-CaO-B2O3-AI2O3 com adição de Nb2O5 para a imobilização de rejeitos radioativos [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jul. 11 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-06112020-160040/
Dissertação (Mestrado)
Filmes finos de carbono depositados por meio da técnica de magnetron sputtering usando cobalto, cobre e níquel como buffer-layers (2015)
Costa e Silva, Danilo Lopes; Pillis, Marina Fuser (Orientador)
Unidade: IPEN
Subjects: FILMES FINOS, CARBONO, COBALTO, COBRE, NÍQUEL
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ABNT
COSTA E SILVA, Danilo Lopes. Filmes finos de carbono depositados por meio da técnica de magnetron sputtering usando cobalto, cobre e níquel como buffer-layers. 2015. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-27082015-090945/. Acesso em: 11 jul. 2024.
APA
Costa e Silva, D. L. (2015). Filmes finos de carbono depositados por meio da técnica de magnetron sputtering usando cobalto, cobre e níquel como buffer-layers (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-27082015-090945/
NLM
Costa e Silva DL. Filmes finos de carbono depositados por meio da técnica de magnetron sputtering usando cobalto, cobre e níquel como buffer-layers [Internet]. 2015 ;[citado 2024 jul. 11 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-27082015-090945/
Vancouver
Costa e Silva DL. Filmes finos de carbono depositados por meio da técnica de magnetron sputtering usando cobalto, cobre e níquel como buffer-layers [Internet]. 2015 ;[citado 2024 jul. 11 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-27082015-090945/

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