Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD (2003)
Souza, Denise Criado Pereira de 
; Pereyra, Inés (Orientador)
Subjects: FILMES FINOS, SILÍCIO
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ABNT
SOUZA, Denise Criado Pereira de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/. Acesso em: 22 jul. 2024.APA
Souza, D. C. P. de. (2003). Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/NLM
Souza DCP de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 jul. 22 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/Vancouver
Souza DCP de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 jul. 22 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/
