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Artigo de periodico
Antisymmetric elements in group rings II (2009)
Cristo, Osnel Broche; Jespers, Eric; Polcino Milies, Francisco César ; Ruiz Marin, manuel
Source: Journal of Algebra and its Applications. Unidade: IME
Assunto: ANÉIS DE GRUPOS
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ABNT
CRISTO, Osnel Broche et al. Antisymmetric elements in group rings II. Journal of Algebra and its Applications, v. 8, n. 1, p. 115-127, 2009Tradução . . Disponível em: https://doi-org.ez67.periodicos.capes.gov.br/10.1142/S0219498809003254. Acesso em: 25 set. 2024.
APA
Cristo, O. B., Jespers, E., Polcino Milies, F. C., & Ruiz Marin, manuel. (2009). Antisymmetric elements in group rings II. Journal of Algebra and its Applications, 8( 1), 115-127. doi:10.1142/S0219498809003254
NLM
Cristo OB, Jespers E, Polcino Milies FC, Ruiz Marin manuel. Antisymmetric elements in group rings II [Internet]. Journal of Algebra and its Applications. 2009 ; 8( 1): 115-127.[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://doi-org.ez67.periodicos.capes.gov.br/10.1142/S0219498809003254
Vancouver
Cristo OB, Jespers E, Polcino Milies FC, Ruiz Marin manuel. Antisymmetric elements in group rings II [Internet]. Journal of Algebra and its Applications. 2009 ; 8( 1): 115-127.[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://doi-org.ez67.periodicos.capes.gov.br/10.1142/S0219498809003254
Trabalho de evento-resumo
Pattern transfer by diffractive photomask (2009)
Cirino, Giuseppe Antonio; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Cescato, Lucila H.; Marega Júnior, Euclydes; Gonçalves Neto, Luiz
Source: Abstracts. Conference titles: Frontiers in Optics. Unidades: IFSC, EP
Subjects: IMPRESSÃO (TÉCNICAS;DESENVOLVIMENTO), LITOGRAFIA (PROCESSOS DE IMPRESSÃO), HOLOGRAFIA DIGITAL
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ABNT
CIRINO, Giuseppe Antonio et al. Pattern transfer by diffractive photomask. 2009, Anais.. Washington, DC: Optical Society of America - OSA, 2009. Disponível em: https://doi.org/10.1364/FIO.2009.JWC4. Acesso em: 25 set. 2024.
APA
Cirino, G. A., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., Cescato, L. H., Marega Júnior, E., & Gonçalves Neto, L. (2009). Pattern transfer by diffractive photomask. In Abstracts. Washington, DC: Optical Society of America - OSA. doi:10.1364/FIO.2009.JWC4
NLM
Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB, Cescato LH, Marega Júnior E, Gonçalves Neto L. Pattern transfer by diffractive photomask [Internet]. Abstracts. 2009 ;[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://doi.org/10.1364/FIO.2009.JWC4
Vancouver
Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB, Cescato LH, Marega Júnior E, Gonçalves Neto L. Pattern transfer by diffractive photomask [Internet]. Abstracts. 2009 ;[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://doi.org/10.1364/FIO.2009.JWC4
Trabalho de evento
A new approach to χ2 cryptanalysis of block ciphers (2009)
Nakahara Jr., Jorge ; Sekar, Gautham; Freitas, Daniel Santana de; Chiann, Chang ; Souza, Ramon Hugo de ; Preneel, Bart
Source: Proceedings. Conference titles: International Conference on Information Security - ISC. Unidade: IME
Assunto: CRIPTOLOGIA
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ABNT
NAKAHARA JR., Jorge et al. A new approach to χ2 cryptanalysis of block ciphers. 2009, Anais.. Berlin: Springer, 2009. Disponível em: https://doi.org/10.1007/978-3-642-04474-8_1. Acesso em: 25 set. 2024.
APA
Nakahara Jr., J., Sekar, G., Freitas, D. S. de, Chiann, C., Souza, R. H. de, & Preneel, B. (2009). A new approach to χ2 cryptanalysis of block ciphers. In Proceedings. Berlin: Springer. doi:10.1007/978-3-642-04474-8_1
NLM
Nakahara Jr. J, Sekar G, Freitas DS de, Chiann C, Souza RH de, Preneel B. A new approach to χ2 cryptanalysis of block ciphers [Internet]. Proceedings. 2009 ;[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://doi.org/10.1007/978-3-642-04474-8_1
Vancouver
Nakahara Jr. J, Sekar G, Freitas DS de, Chiann C, Souza RH de, Preneel B. A new approach to χ2 cryptanalysis of block ciphers [Internet]. Proceedings. 2009 ;[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://doi.org/10.1007/978-3-642-04474-8_1
Artigo de periodico
Artificial molecular quantum rings under magnetic field influence (2009)
Castelano, L. K.; Hai, Guo-Qiang ; Partoens, B; Peeters, F. M.
Source: Journal of Applied Physics. Unidade: IFSC
Subjects: SEMICONDUTORES, MAGNETISMO, ENERGIA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CASTELANO, L. K. et al. Artificial molecular quantum rings under magnetic field influence. Journal of Applied Physics, v. 106, n. 7, p. 073702-1-073702-8, 2009Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.3223360. Acesso em: 25 set. 2024.
APA
Castelano, L. K., Hai, G. -Q., Partoens, B., & Peeters, F. M. (2009). Artificial molecular quantum rings under magnetic field influence. Journal of Applied Physics, 106( 7), 073702-1-073702-8. doi:10.1063/1.3223360
NLM
Castelano LK, Hai G-Q, Partoens B, Peeters FM. Artificial molecular quantum rings under magnetic field influence [Internet]. Journal of Applied Physics. 2009 ; 106( 7): 073702-1-073702-8.[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.3223360
Vancouver
Castelano LK, Hai G-Q, Partoens B, Peeters FM. Artificial molecular quantum rings under magnetic field influence [Internet]. Journal of Applied Physics. 2009 ; 106( 7): 073702-1-073702-8.[citado 2024 set. 25 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.3223360

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