Formation mechanism of amorphous 'SI''O IND.2' during vacuum deposition (1989)
Source: Programa e Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Fisica da Materia Condensada. Unidade: IFSC
Assunto: MATERIAIS
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ABNT
OHSAKI, H e AEGERTER, M A e TADA, M. Formation mechanism of amorphous 'SI''O IND.2' during vacuum deposition. 1989, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica, 1989. . Acesso em: 25 jun. 2024.APA
Ohsaki, H., Aegerter, M. A., & Tada, M. (1989). Formation mechanism of amorphous 'SI''O IND.2' during vacuum deposition. In Programa e Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica.NLM
Ohsaki H, Aegerter MA, Tada M. Formation mechanism of amorphous 'SI''O IND.2' during vacuum deposition. Programa e Resumos. 1989 ;[citado 2024 jun. 25 ]Vancouver
Ohsaki H, Aegerter MA, Tada M. Formation mechanism of amorphous 'SI''O IND.2' during vacuum deposition. Programa e Resumos. 1989 ;[citado 2024 jun. 25 ]
