Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer (2006)
Silva, Marcelo de Assumpção Pereira da 
; Carvalho, Antonio Felix; Longaresi, Rafael Henriques; Faria, Roberto Mendonça
Source: Final Program. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais - SBPMat. Unidade: IFSC
Subjects: NANOTECNOLOGIA, POLÍMEROS (MATERIAIS), FILMES FINOS, VIDRO, SOLVENTE
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ABNT
SILVA, Marcelo de Assumpção Pereira da et al. Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer. 2006, Anais.. Rio de Janeiro: Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais - SBPMat, 2006. . Acesso em: 21 ago. 2024.APA
Silva, M. de A. P. da, Carvalho, A. F., Longaresi, R. H., & Faria, R. M. (2006). Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer. In Final Program. Rio de Janeiro: Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais - SBPMat.NLM
Silva M de AP da, Carvalho AF, Longaresi RH, Faria RM. Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer. Final Program. 2006 ;[citado 2024 ago. 21 ]Vancouver
Silva M de AP da, Carvalho AF, Longaresi RH, Faria RM. Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer. Final Program. 2006 ;[citado 2024 ago. 21 ]
