Utilização de laser de femtossegundo na microestruturação de silício amorfo hidrogenado (2012)
Fonte: Livro de Resumos. Nome do evento: Semana do Instituto de Física de São Carlos - SIFSC. Unidade: IFSC
Assuntos: LASER, FILMES FINOS, SILÍCIO
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ABNT
ALMEIDA, Gustavo Foresto Brito de et al. Utilização de laser de femtossegundo na microestruturação de silício amorfo hidrogenado. 2012, Anais.. São Carlos: Universidade de São Paulo - USP, Instituto de Física de São Carlos - IFSC, 2012. . Acesso em: 24 ago. 2024.APA
Almeida, G. F. B. de, Cardoso, M. R., Constantino, C. J. L., Aoki, P. H. B., Rodrigues, C. A., Lima Júnior, J. J. D. de, et al. (2012). Utilização de laser de femtossegundo na microestruturação de silício amorfo hidrogenado. In Livro de Resumos. São Carlos: Universidade de São Paulo - USP, Instituto de Física de São Carlos - IFSC.NLM
Almeida GFB de, Cardoso MR, Constantino CJL, Aoki PHB, Rodrigues CA, Lima Júnior JJD de, Costa L da F, Mendonça CR. Utilização de laser de femtossegundo na microestruturação de silício amorfo hidrogenado. Livro de Resumos. 2012 ;[citado 2024 ago. 24 ]Vancouver
Almeida GFB de, Cardoso MR, Constantino CJL, Aoki PHB, Rodrigues CA, Lima Júnior JJD de, Costa L da F, Mendonça CR. Utilização de laser de femtossegundo na microestruturação de silício amorfo hidrogenado. Livro de Resumos. 2012 ;[citado 2024 ago. 24 ]
