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Artigo de periodico
Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application (2004)
Escobar Forhan, Neisy Amparo; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Subjects: FILMES FINOS, NANOTECNOLOGIA, ESTRUTURA DOS MATERIAIS
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ABNT
ESCOBAR FORHAN, Neisy Amparo e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e PEREYRA, Inés. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application. Journal of Non-Crystalline Solids, v. 338-340, 2004Tradução . . Disponível em: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf. Acesso em: 30 set. 2024.
APA
Escobar Forhan, N. A., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2004). Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application. Journal of Non-Crystalline Solids, 338-340. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
NLM
Escobar Forhan NA, Fantini MC de A, Pereyra I. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2004 ; 338-340[citado 2024 set. 30 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
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Escobar Forhan NA, Fantini MC de A, Pereyra I. Nano-crystalline "Si IND.1-x" "C IND.x" :H thin films deposited by PECVD for SiC-on-insulator application [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2004 ; 338-340[citado 2024 set. 30 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=MImg&_imagekey=B6TXM-4CCFCKJ-1-8&_cdi=5594&_user=972067&_orig=browse&_coverDate=06%2F15%2F2004&_sk=996619999&view=c&wchp=dGLbVlz-zSkWz&md5=768c7876eb02ac94f3aa329920376045&ie=/sdarticle.pdf
Artigo de periodico
Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H (2003)
Prado, J. R; D'Addio, T. F; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés ; Flank, A. M
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
PRADO, J. R et al. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H. Journal of Non-Crystalline Solids, v. 330, n. 1-3, p. 196-215, 2003Tradução . . Disponível em: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/. Acesso em: 30 set. 2024.
APA
Prado, J. R., D'Addio, T. F., Fantini, M. C. de A., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2003). Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H. Journal of Non-Crystalline Solids, 330( 1-3), 196-215. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
NLM
Prado JR, D'Addio TF, Fantini MC de A, Pereyra I, Flank AM. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2003 ; 330( 1-3): 196-215.[citado 2024 set. 30 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
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Prado JR, D'Addio TF, Fantini MC de A, Pereyra I, Flank AM. Annealing effects of highly homogeneous a-'Si IND. 1-x''C IND. x': H [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2003 ; 330( 1-3): 196-215.[citado 2024 set. 30 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=JournalURL&_cdi=5594&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=0f8f94222ce407d33f3e1442abef58bd/
Artigo de periodico
Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films (2002)
Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP
Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, ESPECTROMETRIA, FILMES FINOS
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, v. 413, n. 1-2, p. 59-64, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2. Acesso em: 30 set. 2024.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, 413( 1-2), 59-64. doi:10.1016/s0040-6090(02)00346-2
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.[citado 2024 set. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.[citado 2024 set. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2
Trabalho de evento-resumo
Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado (2000)
Scopel, Wanderla Luis; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Resumos de Trabalhos. Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS. Unidades: IF, EP
Subjects: ÓPTICA, FILMES FINOS
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e PEREYRA, Inés. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. 2000, Anais.. Campinas: LNLS, 2000. . Acesso em: 30 set. 2024.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2000). Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS.
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Pereyra I. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 set. 30 ]
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Pereyra I. Estrutura de ordem local de filmes de oxi-nitreto de silício amorfo higrogenado. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 set. 30 ]
Trabalho de evento
Transistores de filmes finos de silicio amorfo com estrutura 'NI''CR' / 'SI'-a: h (n+) / 'SI'-a : h'SI''N IND.X'-a : h / 'NI''CR' sobre substratos de vidro (1989)
Andrade, Adnei Melges de ; Andrade, Carlos Américo Morato de; Fonseca, Fernando Josepetti ; Pereyra, Inés ; Sanematsu, Mário Sabro
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidades: IEE, EP
Subjects: FILMES FINOS, TRANSISTORES, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ANDRADE, Adnei Melges de et al. Transistores de filmes finos de silicio amorfo com estrutura 'NI''CR' / 'SI'-a: h (n+) / 'SI'-a : h'SI''N IND.X'-a : h / 'NI''CR' sobre substratos de vidro. 1989, Anais.. Porto Alegre: Sbmicro/Ufrgs, 1989. . Acesso em: 30 set. 2024.
APA
Andrade, A. M. de, Andrade, C. A. M. de, Fonseca, F. J., Pereyra, I., & Sanematsu, M. S. (1989). Transistores de filmes finos de silicio amorfo com estrutura 'NI''CR' / 'SI'-a: h (n+) / 'SI'-a : h'SI''N IND.X'-a : h / 'NI''CR' sobre substratos de vidro. In Anais. Porto Alegre: Sbmicro/Ufrgs.
NLM
Andrade AM de, Andrade CAM de, Fonseca FJ, Pereyra I, Sanematsu MS. Transistores de filmes finos de silicio amorfo com estrutura 'NI''CR' / 'SI'-a: h (n+) / 'SI'-a : h'SI''N IND.X'-a : h / 'NI''CR' sobre substratos de vidro. Anais. 1989 ;[citado 2024 set. 30 ]
Vancouver
Andrade AM de, Andrade CAM de, Fonseca FJ, Pereyra I, Sanematsu MS. Transistores de filmes finos de silicio amorfo com estrutura 'NI''CR' / 'SI'-a: h (n+) / 'SI'-a : h'SI''N IND.X'-a : h / 'NI''CR' sobre substratos de vidro. Anais. 1989 ;[citado 2024 set. 30 ]
Trabalho de evento
Amorphous silicon thin film field effect transistors (1989)
Andrade, Adnei Melges de ; Sanematsu, Mário Sabro; Fonseca, Fernando Josepetti ; Andrade, Carlos Américo Morato de; Pereyra, Inés ; Martins, R F P; Fortunato, E
Source: Thin Films and Small Particles: Proceedings. Conference titles: Latin-American Symposium on Surface Physics. Unidades: IEE, EP
Subjects: FILMES FINOS, TRANSISTORES, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ANDRADE, Adnei Melges de et al. Amorphous silicon thin film field effect transistors. 1989, Anais.. Singapore: World Scientific, 1989. . Acesso em: 30 set. 2024.
APA
Andrade, A. M. de, Sanematsu, M. S., Fonseca, F. J., Andrade, C. A. M. de, Pereyra, I., Martins, R. F. P., & Fortunato, E. (1989). Amorphous silicon thin film field effect transistors. In Thin Films and Small Particles: Proceedings. Singapore: World Scientific.
NLM
Andrade AM de, Sanematsu MS, Fonseca FJ, Andrade CAM de, Pereyra I, Martins RFP, Fortunato E. Amorphous silicon thin film field effect transistors. Thin Films and Small Particles: Proceedings. 1989 ;[citado 2024 set. 30 ]
Vancouver
Andrade AM de, Sanematsu MS, Fonseca FJ, Andrade CAM de, Pereyra I, Martins RFP, Fortunato E. Amorphous silicon thin film field effect transistors. Thin Films and Small Particles: Proceedings. 1989 ;[citado 2024 set. 30 ]

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