Caracterização de resinas fotocuráveis para aplicações em óptica não linear (2025)
- Authors:
- Autor USP: OLIVEIRA, VITOR SOUZA PREMOLI PINTO DE - IF
- Unidade: IF
- Sigla do Departamento: FEP
- DOI: 10.11606/D.43.2025.tde-05062025-190657
- Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS); ÓPTICA NÃO LINEAR; FOTÔNICA
- Keywords: FOTOPOLIMERIZAÇÃO; LASER-INDUCE DAMAGE THRESHOLD; LIMIAR DE DANO INDUSIDO A LASER; NON-LINEAR OPTICS; PHOTOPOLIMERIZATION; POLYMERS
- Agências de fomento:
- Language: Português
- Abstract: A fotopolimerização por absorção de dois fótons (FA2F) é uma técnica de escrita a laser de pulsos ultracurtos que permite a fabricação de microestruturas tridimensionais com resolução abaixo do limite de difração usando polímeros e compostos híbridos orgânico-inorgânicos. Apesar de sua resolução ser inferior a das técnicas litográficas, comumente empregadas na fabricação de microdispositivos fotônicos, a FA2F destaca-se pela sua versatilidade e facilidade de processamento, dispensando a necessidade de máscaras litográficas e agentes altamente corrosivos. Para viabilizar o uso de microdispositivos fotônicos fabricados por FA2F para fins de óptica não linear, é necessário realizar a caracterização das propriedades ópticas lineares e não-lineares, bem como do Limiar de Dano Induzido a Laser (LIDT) das resinas fotocuráveis utilizadas na técnica. Portanto, neste trabalho realizamos esta caracterização de resinas orgânicas (SU-8, SR399+SR368+LUCIRIN) e híbridas (SZ2080, Ormocomp e IP-DIP) tipicamente utilizadas para FA2F. Para avaliar a transmissão das resinas na faixa do UV, visível e infravermelho próximo, utilizamos um aparato de espectroscopia de UV-Vis. Para sua caracterização óptica não linear, mais precisamente de seu índice de refração não linear nos comprimentos de onda de 800 nm, 1300 nm e 1550 nm, utilizamos a técnica de rotação não linear da polarização elíptica.O LIDT das resinas foi medido no regime de múltiplos pulsos de femtossegundos, usando um sistema laser amplificado de Ti:Safira centrado em 810 nm, com 100 fs de duração e 100 Hz de taxa de repetição. Todas as resinas apresentaram ampla faixa de transparência na faixa do visível e infravermelho próximo. Seu LIDT no regime de irradiação de femtossegundos, em torno de 0,5 J/cm², mostrou-se comparável ao valor da sílica fundida, material amplamente utilizado para óptica não linear. O índice de refração não linear medido para as resinas nos comprimentos de onda estudados é da ordem de 10e-20 m²/W, aproximadamente cinco vezes superior ao da sílica fundida. Nossos resultados sugerem que as resinas fotocuráveis utilizadas em FA2F são materiais promissores para a fabricação de dispositivos fotônicos operando no visível e no infravermelho próximo
- Imprenta:
- Data da defesa: 16.05.2025
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- Cor do Acesso Aberto: gold
- Licença: cc-by-nc-sa
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ABNT
OLIVEIRA, Vitor Souza Premoli Pinto de. Caracterização de resinas fotocuráveis para aplicações em óptica não linear. 2025. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2025. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-05062025-190657/. Acesso em: 03 jan. 2026. -
APA
Oliveira, V. S. P. P. de. (2025). Caracterização de resinas fotocuráveis para aplicações em óptica não linear (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-05062025-190657/ -
NLM
Oliveira VSPP de. Caracterização de resinas fotocuráveis para aplicações em óptica não linear [Internet]. 2025 ;[citado 2026 jan. 03 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-05062025-190657/ -
Vancouver
Oliveira VSPP de. Caracterização de resinas fotocuráveis para aplicações em óptica não linear [Internet]. 2025 ;[citado 2026 jan. 03 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-05062025-190657/
Informações sobre o DOI: 10.11606/D.43.2025.tde-05062025-190657 (Fonte: oaDOI API)
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