Ultrathin nanocapacitor assembled via atomic layer deposition (2024)
- Authors:
- USP affiliated authors: OLIVEIRA JUNIOR, OSVALDO NOVAIS DE - IFSC ; CARVALHO, WILLIAM ORIVALDO FARIA - IFSC
- Unidade: IFSC
- DOI: 10.1088/1361-6528/ad7f5c
- Subjects: MATERIAIS NANOESTRUTURADOS; NANOTECNOLOGIA; NANOPARTÍCULAS; FILMES FINOS
- Keywords: Nanocapacitor; Dielectric materials; Atomic layer deposition; Ultrathin films
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Nanotechnology
- ISSN: 0957-4484
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 35, n. 50, p. 505711-1-505711-11, Dec. 2024
- Status:
- Artigo aberto em periódico híbrido (Hybrid Open Access)
- Versão do Documento:
- Versão publicada (Published version)
- Acessar versão aberta:
-
ABNT
MEDINA, Javier Alonso Lopez et al. Ultrathin nanocapacitor assembled via atomic layer deposition. Nanotechnology, v. 35, n. 50, p. 505711-1-505711-11, 2024Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1088/1361-6528/ad7f5c. Acesso em: 02 abr. 2026. -
APA
Medina, J. A. L., Mejía-Salazar, J. R., Carvalho, W. O. F., Mercado, C. L., Nedev, N. R., Gómez, F. R., et al. (2024). Ultrathin nanocapacitor assembled via atomic layer deposition. Nanotechnology, 35( 50), 505711-1-505711-11. doi:10.1088/1361-6528/ad7f5c -
NLM
Medina JAL, Mejía-Salazar JR, Carvalho WOF, Mercado CL, Nedev NR, Gómez FR, Oliveira Junior ON de, Sanchez MHF, Tiznado H. Ultrathin nanocapacitor assembled via atomic layer deposition [Internet]. Nanotechnology. 2024 ; 35( 50): 505711-1-505711-11.[citado 2026 abr. 02 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1361-6528/ad7f5c -
Vancouver
Medina JAL, Mejía-Salazar JR, Carvalho WOF, Mercado CL, Nedev NR, Gómez FR, Oliveira Junior ON de, Sanchez MHF, Tiznado H. Ultrathin nanocapacitor assembled via atomic layer deposition [Internet]. Nanotechnology. 2024 ; 35( 50): 505711-1-505711-11.[citado 2026 abr. 02 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1361-6528/ad7f5c - Toward machine-learning-accelerated design of all-dielectric magnetophotonic nanostructures
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